플라즈마 Polymerized 빈 입자의 캡슐화 및 투과율 특성
Summary
우리는 몇 nm의 다양한 재료의 나노 크기의 입자에 대한 몇 백 nm의에 이르기까지 박막을 입금 플라즈마 강화된 화학 기상 증착을 사용했습니다. 우리 투자율 껍질의 두께에 의해 제어됩니다 중공 nanoshells을 생산하기 위해 이후 에칭 핵심 소재. 우리는 작은 solutes 이러한 코팅의 투자율을 특성화하고 이러한 장벽 며칠 동안 핵심 소재의 지속적인 출시를 제공할 수 있다고 보여줍니다.
Abstract
이 프로토콜에서는 코어 쉘 nanostructures는 플라즈마 강화 화학 기상 증착에 의해 합성된다. 우리는 실리카와 칼륨 염화 등 다양한 고체 기판, 대한 이소프로판올의 플라즈마 중합에 의한 비정질 장벽을 생산하고 있습니다. 이 다재 다능한 기술은 누구의 두께가 1 nm의에서 100 nm의의 이상으로 어디 에나있을 수있는 영화를 입금하여, 37 nm의에서 1 마이크론까지 크기의 nanoparticles과 nanopowders을 치료하는 데 사용됩니다. 코어의 해산은 우리가 영화를 통해 침투의 속도를 공부할 수 있습니다. 이 실험에서 우리는 코팅 KCL의 nanocrystals에 의해 배리어 필름을 통해 KCl의 확산 계수를 결정하고 이후 물 속에 정지 코팅된 입자의 이온 전도도를 모니터링. 이 과정에서 가장 큰 관심은 캡슐과 solutes의 지연 릴리스입니다. 껍질의 두께는 우리가 릴리스의 속도를 제어하는 독립 변수 중 하나입니다. 그것은 속도에 강력한 영향을 미치지릴리스의 어느 30 일 이상 장기 릴리스 (쉘 두께가 95 nm의이다)까지 여섯 시간 릴리스 (쉘 두께 20 nm의입니다)에서 증가한다. 릴리스 프로파일 특성 동작을 보여줍니다 해산의 시작 후 첫 5 분 및 핵심 자료의 모든 때까지 느린 릴리즈 중에 빠른 릴리스 (최종 재료의 35 %)이 나오는 거죠.
Protocol
Discussion
코팅 nanoparticles에서 가장 큰 도전 중 하나는 코팅과 기판 1,2 사이에 호환되는 화학을 제공하는 것입니다. 여기서 설명한 방법은 재료 고유 아니라는 장점이 있습니다. 플라즈마 폴리머는 특수 표면 변형 3에 대한 필요없이 하드 금속 (그림 2 (C)), 실리카 (그림 2 (C)), 실리콘, 또는 부드러운 재료 (예 : 폴리머)를 포함하여 기판의 다양한에서 우수한 접착력을…
Divulgations
The authors have nothing to disclose.
Acknowledgements
이 작품은 고급 냉각 기술에서 미국 국립 과학 재단과 그랜트 번호 117041PO9621에서 그랜트 번호 CBET-0651283에 의해 지원되었다.
Materials
| Silica particles | Geltech Inc. | ||
| Potassium chloride (crystals) | EMD Chemicals Inc. | ||
| Isopropyl alcohol (99.9%) | Sigma-Aldrich | ||
| Hydrofluoric acid (48-51%) | VWR | ||
| Pipes and flanges | Swagelok | diameter of ¼ and 1 inch | |
| roughing pump | Edwards | ||
| liquid nitrogen trap | A&N Corporation |
References
- Xu, X., Asher, S. A. Synthesis and Utilization of Monodisperse Hollow Polymeric Particles in Photonic Crystals. Journal of the American Chemical Society. 126, 7940-7945 (2004).
- Lou, X., Archer, L., Yang, Z. Hollow Micro-/nanostructures: Synthesis and Applications. Advanced Material. 20, (2008).
- Kim, D. J., Kang, J. Y., Kim, K. S. Coating of TiO2 Thin Films on Particles by a Plasma Chemical Vapor Deposition Process. Advanced Powder Technology. 21, 136-140 (2010).
- Marino, E., Huijser, T., Creyghton, Y., van der Heijden, A. Synthesis and Coating of Copper Oxide Nanoparticles Using Atmospheric Pressure Plasmas. Surface and Coatings Technology. 201, 9205-9208 (2007).
- Hakim, L., King, D., Zhou, Y., Gump, C., George, S., Weimer, A. Nanoparticle Coating for Advanced Optical, Mechanical and Rheological Properties. Advanced Functional Materials. 17, 3175-3181 (2007).
- Kim, S. H., Kim, J., Kang, B., Uhm, H. S. Superhydrophobic CFx Coating via In-Line Atmospheric RF Plasma of He-CF4-H2. Langmuir. 21, 12213-12217 (2005).
