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Herstellung und Charakterisierung von Photonic Crystal Langsam Lichtwellenleitern und Hohlräume
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Chapitres
- 00:05Titre
- 02:30SOI Wafer Preparation
- 03:50Photonic Crystal Patterning
- 06:04Photonic Crystal Slow-light Waveguide Characterization
- 07:26Photonic Crystal Cavity Characterization
- 08:32Results: Photonic Crystal Patterns Alter Light Waveforms
- 10:09Conclusion
Verwendung von photonischen Kristall langsam Lichtwellenleiter und Hohlräume wurde weithin von der Photonik-Community in vielen unterschiedlichen Anwendungen eingesetzt. Deshalb Herstellung und Charakterisierung dieser Geräte sind von großem Interesse. Dieses Papier umreißt unsere Herstellungstechnik und zwei optische Charakterisierungsmethoden, nämlich: interferometrischen (Wellenleiter) und Resonanzstreuung (Hohlräume).
