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Chapitres
- 00:05Titre
- 01:13Preparation of a Block for Sectioning: Self-assembled Monolayers
- 04:12Sectioning to Produce Nanogap Structures
- 05:35Preparation for Electrical Measurements of Self-assembled Monolayer Samples
- 06:00Results: Images and Electrical Measurements for Nanogaps below 5 nm
- 07:15Conclusion
A fabricação de eletricamente endereçável, high-aspect-ratio (> 1000:1) nanofios metálicos separados por intervalos de nanômetros individuais, seja através de camadas de sacrifício de alumínio e prata ou monocamadas auto-organizadas como modelos é descrito. Estas estruturas nanogap são fabricados sem uma sala limpa, ou quaisquer processos de foto-litografia de feixe de electrões ou por uma forma de extremidade litografia conhecido como nanoskiving.
