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硅表面润湿性的选择区域改性脉冲紫外激光照射在液体环境

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Selective Area Modification of Silicon Surface Wettability by Pulsed UV Laser Irradiation in Liquid Environment

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硅表面润湿性的选择区域改性脉冲紫外激光照射在液体环境

DOI:

10.3791/52720-v

•

08:48 min

•

November 09, 2015

•

Neng Liu, Khalid Moumanis, Jan J. Dubowski

¹Laboratory for Quantum Semiconductors and Photon-based BioNanotechnology, Interdisciplinary Institute for Technological Innovation, Laboratoire Nanotechnologies Nanosystèmes (LN2)- CNRS UMI-3463, Faculty of Engineering,Université de Sherbrooke

Chapitres

00:05Titre
01:24Sample Preparation
02:16Pulsed UV Laser Irradiation in Liquid Environment
03:18Immobilization of Bio-conjugated Nanospheres
03:56Contact Angle Measurement
05:05XPS Measurement
05:52Results: Pulsed UV Laser Irradiation Increases SiOH Surface Concentration
07:10Conclusion

Summary

Traduction automatique

我们对在HF原位改变处理的Si（001）面成亲水或疏水状态通过照射在微流体室中填充用H _{2 O 2 / H} 2 O的溶液（0.01％-0.5％）或甲醇溶液样品的处理报告使用相对低的脉冲能量密度的脉冲UV激光。

Tags

Keywords: Silicon Surface Wettability Pulsed UV Laser Irradiation Liquid Environment Superhydrophilic Hydrophobic Surface Functionalization Biosensing OH-terminated Si Si-OCH3 Compounds

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