Journal
/
/
Selektiv området Modifisering av Silicon Surface fuktbarhet av Pulsed UV Laser bestråling i flytende Miljø
Journal JoVE
Ingénierie
Un abonnement à JoVE est nécessaire pour voir ce contenu.  Connectez-vous ou commencez votre essai gratuit.
Journal JoVE Ingénierie
Selective Area Modification of Silicon Surface Wettability by Pulsed UV Laser Irradiation in Liquid Environment
DOI:

08:48 min

November 09, 2015

, ,

Chapitres

  • 00:05Titre
  • 01:24Sample Preparation
  • 02:16Pulsed UV Laser Irradiation in Liquid Environment
  • 03:18Immobilization of Bio-conjugated Nanospheres
  • 03:56Contact Angle Measurement
  • 05:05XPS Measurement
  • 05:52Results: Pulsed UV Laser Irradiation Increases SiOH Surface Concentration
  • 07:10Conclusion

Summary

Traduction automatique

Vi rapporterer om en fremgangsmåte for in situ endring av HF-behandlet Si (001) overflate i et hydrofile eller hydrofobe tilstand ved bestråling av prøvene i microfluidic kamre fylt med H 2 O 2 / H 2 O-løsning (0,01% -0,5%) eller metanol oppløsninger ved hjelp av pulserende UV laser av en relativ lav puls innflytelse.

Vidéos Connexes

Read Article