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化学溶液法によるシリコン上のマクロポーラスエピタキシャル石英薄膜の作製
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Preparation of Macroporous Epitaxial Quartz Films on Silicon by Chemical Solution Deposition
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化学溶液法によるシリコン上のマクロポーラスエピタキシャル石英薄膜の作製

DOI:
10.3791/53543-v

•

07:37 min

•

December 21, 2015

•

,
1Institut des Nanotechnologies de Lyon,CNRS-École Centrale de Lyon, 2Institut de Ciència de Materials de Barcelona,Consejo Superior de Investigaciones Científicas

Chapitres

  • 00:05Titre
  • 01:11Preparation of the Sol
  • 02:43Gel Film Deposition on Si(100) Substrates
  • 04:04Gel Film Crystallization by Thermal Treatment
  • 04:55Results: Characterization of Macroporous Epitaxial Quartz Films
  • 06:30Conclusion

Summary

Traduction automatique

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A protocol is presented for the preparation of piezoelectric macroporous epitaxial films of quartz on silicon by solution chemistry using dip-coating and thermal treatments in air.

Tags

Keywords: MacroporousEpitaxialQuartzFilmsSiliconChemical Solution DepositionSol-gelTetraethyl OrthosilicateStrontiumCTABMesoporousThermal TreatmentCrystallizationEpitaxial Growth

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