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녹화 및 자극 애플리케이션을위한 높은 접촉 밀도의 제작, 평면 인터페이스 신경 전극
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Fabrication of High Contact-Density, Flat-Interface Nerve Electrodes for Recording and Stimulation Applications
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녹화 및 자극 애플리케이션을위한 높은 접촉 밀도의 제작, 평면 인터페이스 신경 전극

DOI:
10.3791/54388-v

•

09:35 min

•

October 04, 2016

•

, , , ,
1Neural Engineering Center,Case Western Reserve University, 2Advanced Platform Technology Center,U.S. Department of Veterans Affairs, 3Jordan University of Science and Technology

Chapitres

  • 00:05Titre
  • 01:02Contact Placements
  • 03:35Embedding the Electrode Components
  • 05:36Applying Shielding and Completing the Electrode
  • 07:45Results: 7.5-Month Study of FINE Electrode Functionality
  • 08:58Conclusion

Summary

Traduction automatique

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이 문서에서는 높은 접촉 밀도 평면 인터페이스 신경 전극 (FINE)의 제조 공정에 대한 자세한 설명을 제공합니다. 이 전극은 기록 및 말초 신경 내에서 선택적으로 신경 활동을 자극에 최적화되어 있습니다.

Tags

Flat-interface Cuff ElectrodesNeural InterfaceNeuroprostheticsCAD SoftwareLaser CuttingSpot WelderSilicon SheetVacuum ChamberIsotemp OvenReference Contacts

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