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흐름 기반 Dielectrophoresis: 고성능 솔루션 처리 나노와이어 소자의 제조에 대 한 낮은 비용 방법
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Flow-assisted Dielectrophoresis: A Low Cost Method for the Fabrication of High Performance Solution-processable Nanowire Devices
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흐름 기반 Dielectrophoresis: 고성능 솔루션 처리 나노와이어 소자의 제조에 대 한 낮은 비용 방법

DOI:
10.3791/56408-v

•

09:14 min

•

December 07, 2017

•

, ,
1Advanced Technology Institute, Electrical and Electronic Engineering,University of Surrey

Chapitres

  • 00:05Titre
  • 00:56Preparation of Substrates
  • 02:03Photolithography Bilayer Process for Contacts
  • 04:04Deposition of Metal Contacts
  • 04:59Flow-assisted Dielectrophoresis of Nanowires
  • 06:48Results: I-V Characteristics of a Silicon Nanowire Field Effect Transistor Mode Using Flow-aasisted Dielectrophoresis
  • 08:05Conclusion

Summary

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이 종이, 흐름 보조 dielectrophoresis에 대 한 설명에 자기 조립의 나노와이어 장치. 실리콘 나노와이어 필드 효과 트랜지스터의 제조는 예를 들어 표시 됩니다.

Tags

Flow-assisted DielectrophoresisSolution-processable Nanowire DevicesSemiconductor NanowiresNanowire AlignmentNanowire SelectionNanomaterial Self-assemblySolution-based Device FabricationSemiconductor DevicesNanofabricationScalable Nanowire Device Manufacturing

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