Journal
/
/
يو2س5 إعداد فيلم عن طريق ثالث أكسيد اليورانيوم2 الترسيب بالتيار المباشر اﻷخرق وأكسدة المتعاقبة والحد مع الأكسجين الذري والهيدروجين الذري
Journal JoVE
Chimie
This content is Free Access.
Journal JoVE Chimie
U2O5 Film Preparation via UO2 Deposition by Direct Current Sputtering and Successive Oxidation and Reduction with Atomic Oxygen and Atomic Hydrogen
DOI:

12:05 min

February 21, 2019

, , ,

Chapitres

  • 00:04Titre
  • 01:06The Labstation Modular Machine
  • 02:11Introduction of the Sample and Sample Holder into the Labstation
  • 03:10Transfer the Sample Holder to the Preparation Chamber
  • 04:03In situ Cleaning of the Sample Holder and Sample Holder Characterization
  • 05:39Deposition of a UO2 Thin Film
  • 06:50UO2 Sample Characterization
  • 07:38Oxidation of UO2 with Atomic Oxygen and Analysis of the UO3 Obtained
  • 08:52Reduction of UO3 by Atomic Hydrogen and Analysis of the U2O5 Obtained
  • 09:45Results: Identification of Uranium(V) in Thin Films
  • 10:51Conclusion

Summary

Traduction automatique

ويقدم هذا البروتوكول إعداد يو2س5 الأغشية الرقيقة التي تم الحصول عليها في عين المكان تحت الفراغ فائقة. وتتضمن العملية الأكسدة والحد من الأفلام2 ثالث أكسيد اليورانيوم مع الأكسجين الذري والهيدروجين الذري، على التوالي.

Vidéos Connexes

Read Article