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电介质元表面的等强度光束生成演示
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Demonstration of Equal-Intensity Beam Generation by Dielectric Metasurfaces
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电介质元表面的等强度光束生成演示
DOI:
10.3791/59066-v
•
09:33 min
•
June 07, 2019
•
Gwanho Yoon
,
Dasol Lee
,
Junsuk Rho
2,3
1
Department of Mechanical Engineering
,
Pohang University of Science and Technology (POSTECH)
,
2
Department of Chemical Engineering
,
Pohang University of Science and Technology (POSTECH)
,
3
National Institute of Nanomaterials Technology (NINT)
Chapitres
00:04
Titre
00:52
Deposition of Hydrogenated Amorphous Silicon (a-Si:H) on a Fused Silica Substrate by Plasma-enhanced Chemical Vapor Deposition (PECVD)
01:35
Formation of the Chromium Etching Mask
06:53
Etching Process of Hydrogenated Amorphous Silicon
07:41
Results: The Fabricated Metasurface and its Polarization-independent
08:31
Conclusion
Summary
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Traduction automatique
提出了介电元表面的制造和光学表征方案。该方法不仅可用于光束分割器的制造,还可用于一般介电元表面的制造,如透镜、全息图和光学斗篷。
Tags
Metasurface Fabrication
Dielectric Metasurface
Equal-intensity Beam Generation
PECVD
PMMA
Electron Beam Lithography
Silicon Photonics
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