Un abonnement à JoVE est nécessaire pour voir ce contenu. Connectez-vous ou commencez votre essai gratuit.
Chapitres
- 00:00Introduction
- 02:48Preparation of the Electrolytic Solution
- 03:55Substrate Cleaning
- 05:24Al Gate Electrode Evaporation
- 06:31Anodization of the Al Layer
- 07:41ZnO Active Layer Deposition
- 08:38Drain and Source Electrodes Deposition
- 09:36TFT Electrical Characterization
- 10:09Résultats
- 11:22Conclusion
פרמטרים של אנוזציה לצמיחה של שכבת אלומיניום תחמוצת מדידות של אבץ-תחמוצת הסרט דק טרנזיסטורים (TFTs תרי) הם מגוונים כדי לקבוע את ההשפעות על התגובות פרמטרים חשמליים. ניתוח השונות (ANOVA) מוחל על עיצוב מפלקט-בורטמן של ניסויים (DOE) כדי לקבוע את תנאי הייצור שיגרמו לביצועי המכשיר הממוטב.
