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Aplicando tensão dinâmica em filmes de óxido fino imobilizado em uma liga pseudoelástica de níquel-titânio
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Applying Dynamic Strain on Thin Oxide Films Immobilized on a Pseudoelastic Nickel-Titanium Alloy

Aplicando tensão dinâmica em filmes de óxido fino imobilizado em uma liga pseudoelástica de níquel-titânio

DOI:
10.3791/61410-v

•

09:35 min

•

July 28, 2020

•

, , , ,
1Chemical and Nanoscience Center,National Renewable Energy Laboratory, 2Catalytic Carbon Transformation and Scale-Up Center,National Renewable Energy Laboratory, 3Biosciences Center,National Renewable Energy Laboratory

Chapitres

  • 00:04Introduction
  • 00:46Nickel-Titanium (NiTi) Substrate Polishing
  • 01:51Titanium Dioxide (TiO2) Film Preparation
  • 02:41Conducting Electrochemical Measurements Under Strain
  • 05:42Cracked Film Characterization
  • 06:25Surface Characterization
  • 06:59Results: Representative Characterization of the Effects of Dynamic Strain on Thin Oxide Films
  • 09:01Conclusion

Summary

Traduction automatique

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A cepa dinâmica e detração é aplicada em tio 2 filmes finos para estudar os efeitos da tensão na eletrocatálise, especificamente redução de prótons e oxidação da água. Os filmes TiO2 são preparados pelo tratamento térmico da conectividade niti pseudo-elástica (Nitinol).

Tags

Keywords: Dynamic StrainThin Oxide FilmsNickel-titanium AlloyChemical And Mechanical PolishingRutile-titanium DioxideTensile StressElectrochemical MeasurementsHydrogen Evolution Reaction

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