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실리콘 평면 피질 내 미세 전극의 표면 처리를위한 도구
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Tools for Surface Treatment of Silicon Planar Intracortical Microelectrodes
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실리콘 평면 피질 내 미세 전극의 표면 처리를위한 도구

DOI:
10.3791/63500-v

•

06:39 min

•

June 08, 2022

•

, , , , , , ,
1Department of Biomedical Engineering,Case Western Reserve University, 2Advanced Platform Technology Center, Rehabilitation Research and Development,Louis Stokes Cleveland Department of Veterans Affairs Medical Center, 3Department of Bioengineering,The University of Texas at Dallas

Chapitres

  • 00:05Introduction
  • 00:42Handling Assembly for Gas-Phase Deposition
  • 02:05Handling Assembly for Surface Reaction via Aqueous Solution
  • 04:49Results: Surface Treatment of Microelectrode Arrays and Silicon Squares
  • 06:08Conclusion

Summary

Traduction automatique

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본 프로토콜은 가스 증착 및 수용액 반응을 통한 표면 개질을 위한 처리 동안 실리콘 평면 피질 내 미세전극을 취급하기 위한 도구를 기술한다. 절차 전반에 걸쳐 장치를 처리하는 데 사용되는 구성 요소의 어셈블리가 자세히 설명되어 있습니다.

Tags

Surface TreatmentSiliconIntracortical MicroelectrodesGas-phase DepositionAqueous Solution ReactionHandling ToolsDevice IntegritySubstrate Material3D PrintingPolyimide TapeFoam StripVacuum DesiccatorGas-phase DepositionWell PlateCyanoacrylate AdhesiveSurface ConfirmationProbe Device Assembly

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