Un micro-elettro-meccanico-sistema (MEMS) è un componente ampiamente utilizzato in molti settori, tra cui energia, biotecnologia, medicale, comunicazioni e automotive. Tuttavia, sono necessari sistemi di ispezione e caratterizzazione metrologici efficaci per garantire l'affidabilità funzionale dei MEMS. Questo studio presenta un sistema basato sull'olografia digitale come strumento per la metrologia MEMS. L'olografia digitale ha guadagnato sempre più attenzione negli ultimi 20 anni. Con il rapido sviluppo e la diminuzione dei costi degli array di sensori, la risoluzione di tali sistemi è aumentata, ampliando le potenziali applicazioni. Pertanto, ha attirato l'attenzione sia della ricerca che dell'industria come potenziale strumento affidabile per la metrologia industriale. Infatti, registrando il modello di interferenza tra un raggio di oggetto (che contiene informazioni sull'altezza del campione) e un raggio di riferimento su una telecamera CCD, è possibile recuperare le informazioni quantitative di fase di un oggetto. Tuttavia, la maggior parte dei sistemi olografici digitali sono ingombranti e quindi non facili da implementare sulle linee di produzione industriali. La novità del sistema presentato è che è privo di lenti e quindi molto compatto. In questo studio, è stato dimostrato che il microscopio olografico digitale compatto (CDHM) può essere utilizzato per valutare diverse caratteristiche tipicamente considerate come criteri nelle ispezioni MEMS. Vengono presentati i profili di superficie dei MEMS sia in condizioni statiche che dinamiche. Il confronto con l'AFM viene studiato per convalidare l'accuratezza del CDHM.