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Articolo metodologico

Fabbricazione di Nanopillar-Based Split Ring risonatori di corrente di spostamento mediata Risonanze a Terahertz metamateriali

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DOI:

10.3791/55289

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23 marzo 2017

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In questo articolo

Sommario

Un protocollo per la progettazione e la realizzazione di un anello spaccato romanzo risonatore nanopillar-based (SRR) è presentato.

Abstract

Terahertz (THz) anello spaccato risonatore (SRR) metamateriali (MMS) è stato studiato per il gas, chimica, e applicazioni di rilevamento biomolecolari perché la SRR non è influenzata dalle caratteristiche ambientali come la temperatura e la pressione che circonda il risonatore. La radiazione elettromagnetica in frequenze THz è biocompatibile, che è una condizione critica appositamente per l'applicazione del rilevamento biomolecolare. Tuttavia, il fattore di qualità (Q-factor) e risposte in frequenza di tradizionale basato risonatore anello elastico a film sottile (SRR) MM sono molto bassi, il che limita la loro sensibilità e la selettività come sensori. In questo lavoro, nuovi MMS SRR nanopillar-based, che utilizza corrente di spostamento, sono progettati per migliorare il fattore Q fino a 450, che è circa 45 volte superiore a quella di MMS tradizionali basati su film sottile. Oltre alla maggiore fattore Q, i MM nanopillar basato inducono una grande spostamenti di frequenza (17 volte rispetto allo spostamento ottenuto dalla tradizioneal film sottile basati MM). A causa dei fattori Q significativamente migliorate e spostamenti di frequenza, nonché la struttura della radiazione biocompatibile, SRR nanopillar basato THz sono MMs ideali per lo sviluppo di sensori biomolecolari con elevata sensibilità e selettività senza indurre danni o distorsione biomateriali. Un processo di fabbricazione romanzo è stato dimostrato per costruire le SRR nanopillar-based per gli MMS THz corrente di spostamento mediate. A (Au) processo di elettrodeposizione in due fasi d'oro e di un processo di deposizione di strati atomici (ALD) sono usati per creare le lacune sub-10 nm scala tra Au nanopillars. Poiché il processo ALD è un processo di rivestimento conforme, un ossido di alluminio uniforme (Al 2 O 3) strato di spessore scala nanometrica può essere raggiunto. In sequenza galvanica un altro film sottile Au per riempire gli spazi tra Al 2 O 3 e Au, un vicino ricco di Au-Al 2 O 3 -Au struttura con nano-scala di Al 2 O 3 lacune possono esserefabbricato. La dimensione dei nano-gap può essere ben definita controllando accuratamente i cicli di deposizione del processo ALD, che ha una precisione di 0,1 nm.

Introduzione

Terahertz (THz) metamaterials (MMS) sono stati sviluppati per sensori e dispositivi 1, 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9, 10, 11 frequenza agile biomediche. Al fine di migliorare la sensibilità e la frequenza selettività dei THz sensori MM, un nanopillar-based anello elastico risonatore (SRR) è stato progettato....

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Protocollo

Attenzione: Molti dei prodotti chimici utilizzati in queste sintesi sono tossici, altamente infiammabile, e possono causare irritazione e danno d'organo grave quando viene toccato o inalato. Si prega di indossare dispositivi di protezione adeguati (DPI) durante la manipolazione.

1. Preparazione del primo strato di oro (Au) Nanopillar Arrays (Figura 2a-c e Figura 2e-g)

  1. Preparazione di rame (Cu) strati seme per Au galvanica (Figura 2a, b e figura 2e, f)
    1. Utilizzare un wafer 4 "silicio ad alta resistività (Si). (Resistività 560 - 840 Ω · cm) come substrato Il wafer di Si è di tipo N drogato e levigata su un lato (f....

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Risultati

Regimi Fabrication mostrano ogni passaggio (Figure 2a-x). Immagini ottiche (Figura 2A-AC) e le immagini al microscopio elettronico a scansione (SEM) (Figura 2ad-AG) sono stati raccolti per le SRR nanopillar-based a diverse fasi di fabbricazione. Animazioni (Figura 2a-c) illustrano il primo strato di galvanizzati nanopillars Au e il secondo strato di film Au elettrolitico nonché nano-vuoti creati tra loro. L.......

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Discussione

Questa tecnica di fabbricazione ha vantaggi significativi per la creazione di strutture su scala nanometrica rispetto ai metodi esistenti quali la litografia e-beam e di auto-assemblaggio. In primo luogo, le strutture nano-scala possono essere realizzati su una vasta area (un intero wafer) con una fotomaschera che dispone di array nanopillar, che non è pratico con un processo di litografia e-beam. In secondo luogo, il processo di fabbricazione utilizza un processo di fabbricazione tradizionale scala wafer micro, che è m.......

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Dichiarazioni

Gli autori non hanno nulla da rivelare.

Ringraziamenti

Questo materiale si basa su lavoro sostenuto da un fondo di start-up presso l'Università del Minnesota, Twin Cities. Alcune parti di questo lavoro sono state effettuate nella caratterizzazione strumento, Università del Minnesota, un membro del NSF-finanziato Materials Research Servizi di rete (www.mrfn.org) tramite il programma MRSEC. Una porzione di questo lavoro è stata effettuata anche nel Minnesota Nano Center che riceve supporto parziale dal NSF attraverso il programma NNCI.

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Materiali

Elenco dei materiali utilizzati in questo articolo
NomeAziendaNumero di catalogoCommenti
Wafer di siliconeSiltronic AGN/A100 mm, tipo N, lucidatura su un lato, resistenza: 560-840 Ω e toro; cm
CromoKurt J. Lesker CompanyEVMCR35J99,95%
rameKurt J. Lesker CompanyEVMCU40QXQJ99,99% puro
E-Beam evaporatore SystemRocky Mountain Vacuum Tech.N/ARME-2000
S1813 Fotoresist positivoMicroposit10018348N/A
SpinnerMigliori strumentiS0114031123SMART COATER 100
Allineatoremaschera MidasMDA-400LJN/A
Piastra riscaldante digitaleThermo ScientificHP131725serie Super-Nuvoa, temperatura massima: 370 ° C
MF319 SviluppatoreMicroposit10018042N/A
AcetoneFisher ChemicalA18P-4N/A
Alcool isopropilicoFisher ChemicalA416-4N/A
Oro 25 ES RTUTechnic Inc.391427Misuratore di sorgente N / A
KeithleyA / A2612 Sistema SourceMeter
MicroscopioOmaxNJF-120AProfilo A / A
ProfilometroTencor InstrumentsN / AAlpha-Step 200
APS Copper Etchant 100Transfene Company, Inc.N/AN/A
CE-5 M Maschera di cromo EtchantTransfene Company, Inc.N/AN/A
Sistema di deposizione di strati atomiciCambridge Nano Tech inc.N/ASerie Savannah
Ion Mill Etching SystemIntlvac Film sottileN/ANanoquest series
Pulitore ad ultrasuoniCrest UltrasonicsN/APowersonic series
Acido fluoridricoSigma-Aldrich244279diluito al 5%
Pistola a emissione di campo Microscopio elettronico a scansioneJeol Ltd.N/AJEOL serie 6700
diametro puro

Riferimenti

  1. Xu, X., et al. Flexible visible-infrared metamaterials and their applications in highly sensitive chemical and biological sensing. Nano Lett. 11 (8), 3232-3238 (2011).
  2. Singh, R., Cao, W., Al-Naib, I., Cong, L., Withayachumnankul, W., Zhang, W. Ultrasensitive terahertz sensing with high-Q Fano resonances in metasurfaces.<....

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Ristampe e permessi

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