Un protocollo per la progettazione e la realizzazione di un anello spaccato romanzo risonatore nanopillar-based (SRR) è presentato.
È richiesta un abbonamento a JoVE per visualizzare questo contenuto. Accedi o inizia la tua prova gratuita.
Articolo metodologico
Un protocollo per la progettazione e la realizzazione di un anello spaccato romanzo risonatore nanopillar-based (SRR) è presentato.
Terahertz (THz) anello spaccato risonatore (SRR) metamateriali (MMS) è stato studiato per il gas, chimica, e applicazioni di rilevamento biomolecolari perché la SRR non è influenzata dalle caratteristiche ambientali come la temperatura e la pressione che circonda il risonatore. La radiazione elettromagnetica in frequenze THz è biocompatibile, che è una condizione critica appositamente per l'applicazione del rilevamento biomolecolare. Tuttavia, il fattore di qualità (Q-factor) e risposte in frequenza di tradizionale basato risonatore anello elastico a film sottile (SRR) MM sono molto bassi, il che limita la loro sensibilità e la selettività come sensori. In questo lavoro, nuovi MMS SRR nanopillar-based, che utilizza corrente di spostamento, sono progettati per migliorare il fattore Q fino a 450, che è circa 45 volte superiore a quella di MMS tradizionali basati su film sottile. Oltre alla maggiore fattore Q, i MM nanopillar basato inducono una grande spostamenti di frequenza (17 volte rispetto allo spostamento ottenuto dalla tradizioneal film sottile basati MM). A causa dei fattori Q significativamente migliorate e spostamenti di frequenza, nonché la struttura della radiazione biocompatibile, SRR nanopillar basato THz sono MMs ideali per lo sviluppo di sensori biomolecolari con elevata sensibilità e selettività senza indurre danni o distorsione biomateriali. Un processo di fabbricazione romanzo è stato dimostrato per costruire le SRR nanopillar-based per gli MMS THz corrente di spostamento mediate. A (Au) processo di elettrodeposizione in due fasi d'oro e di un processo di deposizione di strati atomici (ALD) sono usati per creare le lacune sub-10 nm scala tra Au nanopillars. Poiché il processo ALD è un processo di rivestimento conforme, un ossido di alluminio uniforme (Al 2 O 3) strato di spessore scala nanometrica può essere raggiunto. In sequenza galvanica un altro film sottile Au per riempire gli spazi tra Al 2 O 3 e Au, un vicino ricco di Au-Al 2 O 3 -Au struttura con nano-scala di Al 2 O 3 lacune possono esserefabbricato. La dimensione dei nano-gap può essere ben definita controllando accuratamente i cicli di deposizione del processo ALD, che ha una precisione di 0,1 nm.
Terahertz (THz) metamaterials (MMS) sono stati sviluppati per sensori e dispositivi 1, 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9, 10, 11 frequenza agile biomediche. Al fine di migliorare la sensibilità e la frequenza selettività dei THz sensori MM, un nanopillar-based anello elastico risonatore (SRR) è stato progettato....
Accesso limitato. Accedi o avvia una prova gratuita per visualizzare questo contenuto.
Attenzione: Molti dei prodotti chimici utilizzati in queste sintesi sono tossici, altamente infiammabile, e possono causare irritazione e danno d'organo grave quando viene toccato o inalato. Si prega di indossare dispositivi di protezione adeguati (DPI) durante la manipolazione.
1. Preparazione del primo strato di oro (Au) Nanopillar Arrays (Figura 2a-c e Figura 2e-g)
Accesso limitato. Accedi o avvia una prova gratuita per visualizzare questo contenuto.
Regimi Fabrication mostrano ogni passaggio (Figure 2a-x). Immagini ottiche (Figura 2A-AC) e le immagini al microscopio elettronico a scansione (SEM) (Figura 2ad-AG) sono stati raccolti per le SRR nanopillar-based a diverse fasi di fabbricazione. Animazioni (Figura 2a-c) illustrano il primo strato di galvanizzati nanopillars Au e il secondo strato di film Au elettrolitico nonché nano-vuoti creati tra loro. L.......
Accesso limitato. Accedi o avvia una prova gratuita per visualizzare questo contenuto.
Questa tecnica di fabbricazione ha vantaggi significativi per la creazione di strutture su scala nanometrica rispetto ai metodi esistenti quali la litografia e-beam e di auto-assemblaggio. In primo luogo, le strutture nano-scala possono essere realizzati su una vasta area (un intero wafer) con una fotomaschera che dispone di array nanopillar, che non è pratico con un processo di litografia e-beam. In secondo luogo, il processo di fabbricazione utilizza un processo di fabbricazione tradizionale scala wafer micro, che è m.......
Accesso limitato. Accedi o avvia una prova gratuita per visualizzare questo contenuto.
Gli autori non hanno nulla da rivelare.
Questo materiale si basa su lavoro sostenuto da un fondo di start-up presso l'Università del Minnesota, Twin Cities. Alcune parti di questo lavoro sono state effettuate nella caratterizzazione strumento, Università del Minnesota, un membro del NSF-finanziato Materials Research Servizi di rete (www.mrfn.org) tramite il programma MRSEC. Una porzione di questo lavoro è stata effettuata anche nel Minnesota Nano Center che riceve supporto parziale dal NSF attraverso il programma NNCI.
....Accesso limitato. Accedi o avvia una prova gratuita per visualizzare questo contenuto.
| Nome | Azienda | Numero di catalogo | Commenti |
|---|---|---|---|
| Wafer di silicone | Siltronic AG | N/A | 100 mm, tipo N, lucidatura su un lato, resistenza: 560-840 Ω e toro; cm |
| Cromo | Kurt J. Lesker Company | EVMCR35J | 99,95% |
| rame | Kurt J. Lesker Company | EVMCU40QXQJ | 99,99% puro |
| E-Beam evaporatore System | Rocky Mountain Vacuum Tech. | N/A | RME-2000 |
| S1813 Fotoresist positivo | Microposit | 10018348 | N/A |
| Spinner | Migliori strumenti | S0114031123 | SMART COATER 100 |
| Allineatore | maschera Midas | MDA-400LJ | N/A |
| Piastra riscaldante digitale | Thermo Scientific | HP131725 | serie Super-Nuvoa, temperatura massima: 370 ° C |
| MF319 Sviluppatore | Microposit | 10018042 | N/A |
| Acetone | Fisher Chemical | A18P-4 | N/A |
| Alcool isopropilico | Fisher Chemical | A416-4 | N/A |
| Oro 25 ES RTU | Technic Inc. | 391427 | Misuratore di sorgente N / A |
| Keithley | A / A | 2612 Sistema SourceMeter | |
| Microscopio | Omax | NJF-120A | Profilo A / A |
| Profilometro | Tencor Instruments | N / A | Alpha-Step 200 |
| APS Copper Etchant 100 | Transfene Company, Inc. | N/A | N/A |
| CE-5 M Maschera di cromo Etchant | Transfene Company, Inc. | N/A | N/A |
| Sistema di deposizione di strati atomici | Cambridge Nano Tech inc. | N/A | Serie Savannah |
| Ion Mill Etching System | Intlvac Film sottile | N/A | Nanoquest series |
| Pulitore ad ultrasuoni | Crest Ultrasonics | N/A | Powersonic series |
| Acido fluoridrico | Sigma-Aldrich | 244279 | diluito al 5% |
| Pistola a emissione di campo Microscopio elettronico a scansione | Jeol Ltd. | N/A | JEOL serie 6700 |
Accesso limitato. Accedi o avvia una prova gratuita per visualizzare questo contenuto.