Descriviamo qui un metodo per fabbricare array di microelettrodi Ti3C2 MXene e utilizzarli per la registrazione neurale in vivo.
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| Name | Company | Catalog Number | Comments |
|---|---|---|---|
| 00-90 vite | McMaster-Carr | 90910A630 | Vite del cranio attorno alla quale è avvolto il filo di terra |
| Controller di stimolazione/registrazione a 128 canali | Intan Technologies | Un componente del sistema di registrazione neurale. | |
| Provette da centrifuga coniche in polipropilene (PP) da 175 mL | Falcon | REF: 352076 | Utilizzato per il lavaggio |
| di connettori ZIF a 18 posizioni con passo da 0,5 mm | Molex | 505110-1892 | Utilizzato per interfacciare l'array flessibile di microelettrodi in parylene con la scheda adattatore PCB. |
| Connettore nanominiaturizzato maschio a doppia fila a 18 posizioni (.025"/.64mm) | Omnetics Connector Corporation | A79008-001 | Utilizzato per interfacciare la scheda adattatore PCB all'headstage di registrazione. |
| Set di plastica monouso da 3 ml Pipette graduate per il trasferimento Rienar | Rienar-3ML-20PCS | Utilizzato per il trasferimento di soluzioni mordenzanti o MXene | |
| 50 ml di provetta da centrifuga conciale in polipropilene (PP) | Falcon | REF: 352070 | Utilizzato per il lavaggio e la selezione delle dimensioni |
| Mordenzante Al Tipo A | Transene | 060-0026000-QT | Per la rimozione dello strato di maschera Al etch dopo l'incisione finale Parylene-C. |
| Polvere di alluminio, -325 mesh, 99,5% (base metallica), granulometria < 44 & micro; m | Alfa Aesar | CAS: 7429-90-5 | Utilizzato per la sintesi MAX |
| Software AutoCAD | Autodesk Inc. | Software di progettazione per il disegno di fotomaschere. Le alternative gratuite includono DraftSight e LayoutEditor. | |
| Mordenzante all'ossido tamponato 6:1 | JT Baker | 1178-03 | Per la rimozione dello strato di SiO2 per esporre i contatti dell'elettrodo MXene alla fine della procedura di fabbricazione. |
| Buprenorfina SR | Wildlife Pharmaceuticals | Analgesia per la chirurgia dei ratti | |
| Centrifuga | Hermle | Benchmark Z 446 | Utilizzato per il lavaggio e la selezione delle dimensioni |
| Dexdomitor | Midwest Veterinary Supply | 193.13250.3 | Anestesia per la chirurgia dei ratti |
| Fresa per trapano | Strumenti di scienza fine | 19007-07 | Frese per trapano |
| Trapano elettrico | Foredom | K.1070 | Trapano a micromotore per craniotomie |
| Evaporatore a fascio di elettroni | Kurt J. Lesker Company | Utilizzato per evaporare Ti, Au e SiO2 durante la fabbricazione. La maggior parte delle camere bianche universitarie dispone di questo strumento o di uno strumento simile. | |
| Filo di terra | A-M Systems | 781500 | Filo d'argento nudo |
| Spazio di testa Fiala, vetro | Supelco | REF: 27298 | Utilizzato per la conservazione di soluzioni MXene |
| Acido cloridrico (12.1N) | Fisher Scientific | CAS: 7647-01-0 | Corrosivo; materiale mordenzante |
| Acido fluoridrico, (soluzione al 48-51% in H2O) | Acros | CAS: 7664-39-3 | Materiale mordenzante |
| Jupiter II Sistema RIE | March Plasma Systems Inc. | Sistema di incisione planare RIE utilizzato per incidere il Parylene-C utilizzando plasma O2. La maggior parte delle camere bianche universitarie dispone di un sistema di incisione RIE planare comparabile. | |
| Nastro in poliimmide standard Kapton, 1/4" | DuPont | Utilizzato per aggiungere spessore alla regione del tampone di incollaggio Au dell'array flessibile di microelettrodi in parylene per l'inserimento nel connettore ZIF. | |
| Ospedale per ketamina | dell'Univ. di Penn. | Anestesia per chirurgia dei ratti | |
| KLA P-7 Stilo Profilometro | KLA Corporation | Ha utilizzato i profili 2D di misurazione per confermare l'incisione completa attraverso lo strato sacrificale di parylene-C nel passaggio 2.4.2. La maggior parte delle camere bianche universitarie dispone di questo strumento di profilometro a stilo o di uno strumento comparabile. | |
| Cloruro di litio, 99% per analisi, anidro | Acros | CAS: 7447-41-8 | Igroscopico; materiale di delaminazione |
| Allineatore maschera MA6 | Karl Suss Microtec AG | Utilizzato per allineare ogni fotomaschera al modello sul wafer ed esporre il wafer ai raggi UV. La maggior parte delle camere bianche universitarie dispone di questo strumento o di uno strumento simile. | |
| Soluzione detergente Micro-90 | International Products Corporation | M-9050-12 | Utilizzato come strato antiadesivo per consentire la rimozione dello strato sacrificale di Parylene-C per modellare il fotoresist MXene |
| NR71-3000p | Futurrex Inc. | NR71-3000p | Fotoresist negativo utilizzato per definire tracce Ti/Au e pattern MXene nei dispositivi. |
| Unguento oftalmico | Midwest Veterinary Supply | 193.63200.3 | Per prevenire l'essiccazione corneale durante l'intervento chirurgico |
| Sistema di deposizione di parylene | Sistemi di rivestimento | Utilizzato per evaporare sottili film conformi di Parylene-C Sistema di | |
| rivestimento speciale | dimero Parylene-C | 980130-c-01lbe | Polimero flessibile utilizzato come strati di passivazione inferiore e superiore per i dispositivi |
| MXene flessibili | nostre fotomaschere sono state prodotte nella camera bianca dell'Università utilizzando un sistema di scrittura laser Heidelberg DWL66+, tuttavia diversi fornitori producono fotomaschere dai file di progettazione forniti. | ||
| Soluzione di iodio povidone | Medline | MDS093901 | Per aiutare a prevenire l'infezione intorno all'incisione del cuoio capelluto |
| Circuito stampato (PCB) | Circuiti | Utilizzato per interfacciarsi tra l'array di elettrodi MXene e l'elettronica di misurazione come il potenziostato e il sistema di registrazione Intan. Advanced Circuits e altri fornitori producono e assemblano PCB in base ai file di progettazione forniti. | |
| RD6 Sviluppatore | Futurrex Inc. | Sviluppatore RD6 | Utilizzato per sviluppare il fotoresist negativo NR71-3000p dopo l'esposizione ai raggi UV |
| Potenziostato di riferimento 600 | Strumenti Gamry Utilizzato | per misurare l'impedenza degli elettrodi per valutare la qualità dei dispositivi | |
| Remover PG | MicroChem Corp. | G050200 | Utilizzato per rimuovere NR71-3000p dopo la deposizione di metallo per eseguire il patterning di sollevamento |
| RHS2000 cavo di interfaccia Stim SPI | Intan Technologies | Un componente del sistema di registrazione neurale. | |
| Scheda amplificatore RHS2116 | Intan Technologies | Un componente del sistema di registrazione neurale. | |
| Si wafer | Wafer World | 2885 | Substrato per la fabbricazione |
| Spin Coater | Attrezzatura | Per il rivestimento di wafer con resist e l'applicazione degli strati Micro-90 e MXene. La maggior parte delle camere bianche universitarie è dotata di centrifughe. | |
| Telaio stereotassico | Kopf Instruments | Modello 902 | Per il posizionamento del ratto per la neurochirurgia |
| Agitatore magnetico rivestito in teflon | Corning | REF: 1233W95 | Utilizzato per agitare durante l'incisione e l'intercalazione |
| Carburo di titanio, 99,5% (base metallica), dimensione delle particelle ~2 &; m | Alfa Aesar | CAS: 12070-08-5 | Utilizzato per la sintesi MAX |
| Polvere di titanio, -325 mesh, 99% (base metallica), dimensione delle particelle < 44µ m | Alfa Aesar | CAS: 7440-32-6 | Utilizzato per la sintesi MAX |
| Sonicatore a bagno ad ultrasuoni | Reynolds Tech | Per la rimozione di particelle metalliche e fotoresist durante i processi di sollevamento per modellare i metalli. | |
| Spettrofotometro UV vis | ThermoScientific | Evolution 201 | Utilizzato per determinare la concentrazione e osservare il picco di assorbimento |
| Zetasizer, Analisi granulometrica | Malvern Panalytical | Nano ZS | Utilizzato per determinare la distribuzione granulometrica laterale delle particelle |
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