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Películas epitaxiales nanoestructuradas α-cuarzo sobre silicio: del material a los nuevos dispositivos
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Capitoli
- 00:05Introduction
- 00:54Preparation of PDMS Templates and Gel Film Deposition on SOI Substrates by Dip-Coating
- 02:55Surface Micro/Nanostructuration by Soft Imprint Lithography and Gel Film Crystallization by Thermal Treatment
- 04:00Preparing and Patterning of the Quartz Samples for the Cantilever Microfabrication Process
- 08:49Results: Qualitative Analysis of the Progressive Epitaxial Nanostructured α-Quartz Film Thickness Developed on Silicon
- 10:20Conclusion
Este trabajo presenta un protocolo detallado para la microfabricación de voladizo de α-cuarzo nanoestructurado en un sustrato de tecnología Silicio-On-Insulator (SOI) a partir del crecimiento epitaxial de la película de cuarzo con el método de recubrimiento dip y luego la nanoestructuración de la película delgada a través de la litografía de nanoimimpresión.
Tags
EpitaxialNanostructuredAlpha-quartzSiliconQuartz-based SensorsMiniaturizationMonolithic IntegrationChemical IntegrationEpitaxial RequirementsMicrocantileversActive Microelectromechanical SystemLead-free Piezoelectric Oxide MaterialsMass SensitivityPDMSSOI SubstrateDip CoatingGel FilmMicro/nanostructure
