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Calibración de instrumentos, configuración experimental y ajuste de parámetros para imágenes de topografía de obleas semiconductoras con AFM

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Calibración de instrumentos, configuración experimental y ajuste de parámetros para imágenes de topografía de obleas semiconductoras con AFM

Parallel Active Cantilever Arrays in AFMS to Enable High-Throughput Inspections

Article DOI: 10.3791/200439-v • 03:41 min • June 13th, 2023

June 13th, 2023 •

Fangzhou Xia¹, Kamal Youcef-Toumi¹, Thomas Sattel², Eberhard Manske³, Ivo W. Rangelow^4,5

¹Mechatronics Research Lab, Department of Mechanical Engineering, Massachusetts Institute of Technology, ²Mechatronics Group, Department of Mechanical Engineering, Ilmenau University of Technology, ³Production and Precision Measurement Technology Group, Institute of Process Measurement and Sensor Technology, Ilmenau University of Technology, ⁴Nanoscale Systems Group, Institute of Process Measurement and Sensor Technology, Ilmenau University of Technology, ⁵nano analytik GmbH

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