/
/
Mjuk Litografiska funktionalisering och mönstring oxid-fri Silicon och germanium
This content is Free Access.
Capitoli
- 00:05Titolo
- 03:25Forming a Primary Methyl-terminated Monolayer on Silicon
- 05:07Forming a Primary Methyl-terminated Monolayer on Germanium
- 05:50NHS Substrate
- 06:26Preparing and Using the Acidic Polyurethane Acrylate (PUA) Stamp
- 08:13Protein Pattern
- 09:21Catalytic Nano-patterning and Functionalization
- 11:02Conclusion
Här beskriver vi en enkel metod för mönstring oxid-fri kisel och germanium med reaktiva organiska monolager och visa funktionalisering av mönstrade substrat med små molekyler och proteiner. Den strategi som skyddar helt ytor från kemisk oxidation, ger exakt kontroll över funktionen morfologi, och ger god tillgång till kemiskt diskriminerad mönster.
Tags
Soft Lithographic FunctionalizationPatterningOxide-free SiliconGermaniumHybrid Electronic Devices(bio)organic MaterialsInorganic SemiconductorsStable InterfaceElectron TransportOxidative DegradationSelf-assembled MonolayersAlkyl ChainsImpervious BarriersTraditional Patterning TechniquesImmobilizing Organic Molecular SystemsOptical FunctionElectronic FunctionMechanical FunctionChemical ActivityBiological ActivityMicrocontact PrintingNoble Metal SurfacesPattern TransferOxide-free Silicon And Germanium SubstratesInk DiffusionResolution Limit
