Rivista
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ゲート定義のGaAs / AlGaAs系横量子ドットのナノファブリケーション
JoVE Journal
Ingegneria
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JoVE Journal Ingegneria
Nanofabrication of Gate-defined GaAs/AlGaAs Lateral Quantum Dots
DOI:

15:47 min

November 01, 2013

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Capitoli

  • 00:05Titolo
  • 01:21Etching of the Mesa
  • 05:53Fabrication of the Ohmic Contacts
  • 08:38Fabrication of the Titanium/Gold Schottky Leads
  • 10:45Fabrication of the Aluminum Gates
  • 11:08Fabrication of the Bonding Pads
  • 11:54Dicing of the Sample
  • 12:50Bonding
  • 13:07Results: Confirming Gate Integrity
  • 15:14Conclusion

Summary

Traduzione automatica

本論文では、ガリウム砒素ヘテロ構造上のゲート定義の半導体量子ドットの横の詳細な製造プロトコルを提示します。これらのナノスケールのデバイスは、量子情報処理やコヒーレントコンダクタンス測定などの他のメゾ実験のための量子ビットとして使用するためのいくつかの電子をトラップするために使用される。

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