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反応性スパッタリングによって堆積した酸化ニオブ膜:酸素流量の影響
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Niobium Oxide Films Deposited by Reactive Sputtering: Effect of Oxygen Flow Rate
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反応性スパッタリングによって堆積した酸化ニオブ膜:酸素流量の影響

DOI:
10.3791/59929-v

•

08:23 min

•

September 28, 2019

•

, , , , ,
1Chemistry Department,Federal University of São Carlos (UFSCAR), 2Physics Department, School of Sciences,São Paulo State University (UNESP)

Capitoli

  • 00:04Titolo
  • 00:47Niobium Oxide Film Deposition
  • 03:55Solar Cell Construction
  • 05:46Results: The Effects of Oxygen Flow Rates on Reactive Sputtering
  • 07:23Conclusion

Summary

Traduzione automatica

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ここでは、ペロブスカイト太陽電池における電子輸送層として用いる酸素流量の異なる反応スパッタリングによる酸化ニオブ膜堆積のプロトコルを提示する。

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Reactive SputteringNiobium Oxide FilmsOxygen Flow RateThin Film DepositionSubstrate PreparationSputtering Process ParametersFilm ThicknessPlasma CleaningImpedance Matching

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