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記録と刺激アプリケーションの高接触密度、フラットインターフェイスの神経電極の作製
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Fabrication of High Contact-Density, Flat-Interface Nerve Electrodes for Recording and Stimulation Applications
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Click here for the English version.
記録と刺激アプリケーションの高接触密度、フラットインターフェイスの神経電極の作製
DOI:
10.3791/54388-v
•
09:35 min
•
October 04, 2016
•
Yazan M. Dweiri
3
,
Matthew A. Stone
,
Dustin J. Tyler
,
Grant A. McCallum
,
Dominique M. Durand
1
Neural Engineering Center
,
Case Western Reserve University
,
2
Advanced Platform Technology Center
,
U.S. Department of Veterans Affairs
,
3
Jordan University of Science and Technology
Chapters
00:05
Title
01:02
Contact Placements
03:35
Embedding the Electrode Components
05:36
Applying Shielding and Completing the Electrode
07:45
Results: 7.5-Month Study of FINE Electrode Functionality
08:58
Conclusion
Summary
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この記事では、高い接触密度フラットインタフェース神経電極(FINE)の製造工程の詳細な説明を提供します。この電極は、末梢神経内で選択的神経活動を記録し、刺激のために最適化されています。
Tags
Flat-interface Cuff Electrodes
Neural Interface
Neuroprosthetics
CAD Software
Laser Cutting
Spot Welder
Silicon Sheet
Vacuum Chamber
Isotemp Oven
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