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Utilisation de sacrificielles Nanoparticules pour éliminer les effets de Shot-bruit dans les trous de contact fabriquées par E-beam Lithography
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Use of Sacrificial Nanoparticles to Remove the Effects of Shot-noise in Contact Holes Fabricated by E-beam Lithography
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Utilisation de sacrificielles Nanoparticules pour éliminer les effets de Shot-bruit dans les trous de contact fabriquées par E-beam Lithography

DOI:
10.3791/54551-v

•

07:47 min

•

February 12, 2017

•

,
1Department of Chemistry,Portland State University, 2Logic Technology Department,Intel Corporation

Chapters

  • 00:05Title
  • 01:20Derivatization and Characterization of Silicon Wafer Surfaces
  • 02:14Gold Nanoparticle (GNP) Deposition into E-beam-patterned Holes
  • 03:46Pol(methyl methacrylate) (PMMA) Photoresist Reflow and Dry- and Wet-etching
  • 04:50Results: Reduction of Shot-noise by Deposition and Subsequent Etching of Sacrificial GNPs
  • 06:29Conclusion

Summary

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Uniformément nanoparticules de taille peuvent éliminer les fluctuations de contact avec les dimensions des trous à motifs en poly (méthacrylate de méthyle) films (PMMA) de résine photosensible par faisceau d'électrons (E-beam) lithographie. Le procédé consiste à entonnoir électrostatique centre et de dépôt des nanoparticules dans des trous de contact, suivie par photoresist refusion et étapes PLASMA et gravure humide.

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Keywords: Sacrificial NanoparticlesShot-noiseE-beam LithographyContact HolesSub-20 Nanometer PatternsRCA CleaningAATMSPMMAGold NanoparticlesEvaporation

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