Journal
/
/
Atomare lag aflejring af Vanadium kuldioxid og en temperatur-afhængige optisk Model
JoVE 신문
공학
This content is Free Access.
JoVE 신문 공학
Atomic Layer Deposition of Vanadium Dioxide and a Temperature-dependent Optical Model
DOI:

11:10 min

May 23, 2018

, ,

Chapters

  • 00:04Title
  • 00:56Atomic Layer Deposition (ALD) of Amorphous Vanadium Dioxide (VO2 ) on Sapphire Substrates
  • 03:06Annealing Amorphous VO2 Thin Films
  • 04:45Characterization of VO2 Films by Raman Spectroscopy
  • 05:43Characterization of VO2 Films by X-Ray Photoelectron Spectroscopy (XPS)
  • 07:31Morphological Characterization by Atomic Force Microscopy (AFM)
  • 09:06Results: Characterization of Amorphousand Crystalline VO2 Films
  • 10:49Conclusion

Summary

자동 번역

Tynde film (100-1000 Å) af vanadium kuldioxid (VO2) var lavet af atomic-lag deposition (ALD) på safir substrater. Efter dette, blev de optiske egenskaber karakteriseret gennem metal-isolator overgangen af VO2. Fra de målte optiske egenskaber, blev en model oprettet for at beskrive afstemmelige brydningsindekset af VO2.

Related Videos

Read Article