Journal
/
/
Demonstration af lige-Intensitets stråle generering ved dielektriske Metasurfaces
JoVE 신문
공학
JoVE 비디오를 활용하시려면 도서관을 통한 기관 구독이 필요합니다.  전체 비디오를 보시려면 로그인하거나 무료 트라이얼을 시작하세요.
JoVE 신문 공학
Demonstration of Equal-Intensity Beam Generation by Dielectric Metasurfaces
DOI:

09:33 min

June 07, 2019

, ,

Chapters

  • 00:04Title
  • 00:52Deposition of Hydrogenated Amorphous Silicon (a-Si:H) on a Fused Silica Substrate by Plasma-enhanced Chemical Vapor Deposition (PECVD)
  • 01:35Formation of the Chromium Etching Mask
  • 06:53Etching Process of Hydrogenated Amorphous Silicon
  • 07:41Results: The Fabricated Metasurface and its Polarization-independent
  • 08:31Conclusion

Summary

자동 번역

En protokol til fabrikation og optisk karakterisering af dielektriske metasurfaces præsenteres. Denne metode kan anvendes til fabrikation af ikke kun Beam Splitters, men også af generelle dielektriske metasurfaces, såsom linser, hologrammer, og optiske cloaks.

Related Videos

Read Article