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반응성 스퍼터링에 의해 증착된 니오비움 옥사이드 필름: 산소 유량의 효과

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Niobium Oxide Films Deposited by Reactive Sputtering: Effect of Oxygen Flow Rate

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반응성 스퍼터링에 의해 증착된 니오비움 옥사이드 필름: 산소 유량의 효과

DOI:

10.3791/59929-v

•

08:23 min

•

September 28, 2019

•

Silvia L. Fernandes, Lucas J. Affonço, Roberto A. R. Junior, José H. D. da Silva, Elson Longo, Carlos F. de O. Graeff

¹Chemistry Department,Federal University of São Carlos (UFSCAR), ²Physics Department, School of Sciences,São Paulo State University (UNESP)

Chapters

00:04Title
00:47Niobium Oxide Film Deposition
03:55Solar Cell Construction
05:46Results: The Effects of Oxygen Flow Rates on Reactive Sputtering
07:23Conclusion

Summary

자동 번역

여기서, 우리는 페로브스카이트 태양전지에서 전자 수송층으로서 사용하기 위해 상이한 산소 유량으로 반응성 스퍼터링에 의한 산화질소 필름 증착에 대한 프로토콜을 제시한다.

Tags

Reactive Sputtering Niobium Oxide Films Oxygen Flow Rate Thin Film Deposition Substrate Preparation Sputtering Process Parameters Film Thickness Plasma Cleaning Impedance Matching

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