Waiting
로그인 처리 중...

Trial ends in Request Full Access Tell Your Colleague About Jove
Journal / Bioengineering / Fokuserad jonstråle litografi till etch…
JoVE Journal
Bioengineering

JoVE 비디오를 활용하시려면 도서관을 통한 기관 구독이 필요합니다. 전체 비디오를 보시려면 로그인하거나 무료 트라이얼을 시작하세요.

JoVE Journal Bioengineering
Fokuserad jonstråle litografi till etch nano-arkitekturer i mikroelektroder
 
Click here for the English version

Fokuserad jonstråle litografi till etch nano-arkitekturer i mikroelektroder

Article DOI: 10.3791/60004-v • 13:49 min • January 19th, 2020
January 19th, 2020 •
1, 2,4, 5, 6, 2,3,4
1Department of Electrical Engineering and Computer Science, University of Michigan, 2Veteran Affairs Ann Arbor Healthcare System, 3Department of Neurology, School of Medicine, University of Michigan, 4Department of Biomedical Engineering, University of Michigan, 5Michigan Center for Materials Characterization, University of Michigan, 6Carl Zeiss SMT, Inc.

챕터

요약
Automatic Translation

Please note that all translations are automatically generated.

Click here for the English version.

Vi har visat att etsning av Nano-arkitektur i intracortical mikroelektrod enheter kan minska den inflammatoriska reaktionen och har potential att förbättra elektrofysiologiska inspelningar. De metoder som beskrivs häri skissera en strategi för etch nano-arkitekturer i ytan av icke-funktionella och funktionella enda skaft kisel intracortical mikroelektroder.

Tags

Bioteknik fokuserad jonstråle litografi intracortical mikroelektroder nano-arkitektur elektrofysiologi neuroinflammation biokompatibilitet
Read Article

Get cutting-edge science videos from JoVE sent straight to your inbox every month.

Waiting X
Simple Hit Counter