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Epitaxial Nanostructured α-Quartz-Folien auf Silizium: Vom Material zu neuen Geräten
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JoVE 신문 공학
Epitaxial Nanostructured α-Quartz Films on Silicon: From the Material to New Devices
DOI:

11:34 min

October 06, 2020

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Chapters

  • 00:05Introduction
  • 00:54Preparation of PDMS Templates and Gel Film Deposition on SOI Substrates by Dip-Coating
  • 02:55Surface Micro/Nanostructuration by Soft Imprint Lithography and Gel Film Crystallization by Thermal Treatment
  • 04:00Preparing and Patterning of the Quartz Samples for the Cantilever Microfabrication Process
  • 08:49Results: Qualitative Analysis of the Progressive Epitaxial Nanostructured α-Quartz Film Thickness Developed on Silicon
  • 10:20Conclusion

Summary

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Diese Arbeit präsentiert ein detailliertes Protokoll für die Mikrofertigung von nanostrukturierten α-Quarz-Ausleger auf einem Silizium-On-Insulator(SOI)-Technologiesubstrat ausgehend vom epitaxialen Wachstum von Quarzfolien mit dem Tauchbeschichtungsverfahren und dann der Nanostrukturierung des Dünnfilms mittels Nanoimprint-Lithographie.

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