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Chapters
- 00:05Introduction
- 00:54Preparation of PDMS Templates and Gel Film Deposition on SOI Substrates by Dip-Coating
- 02:55Surface Micro/Nanostructuration by Soft Imprint Lithography and Gel Film Crystallization by Thermal Treatment
- 04:00Preparing and Patterning of the Quartz Samples for the Cantilever Microfabrication Process
- 08:49Results: Qualitative Analysis of the Progressive Epitaxial Nanostructured α-Quartz Film Thickness Developed on Silicon
- 10:20Conclusion
यह काम सिलिकॉन-ऑन-इंसुलेटर (एसओआई) प्रौद्योगिकी सब्सट्रेट पर नैनोस्ट्रक्चर्ड α-क्वार्ट्ज कैंटिलीवर के माइक्रोफैब्रिकेशन के लिए एक विस्तृत प्रोटोकॉल प्रस्तुत करता है जो क्वार्ट्ज फिल्म के एपिटैक्सियल विकास से शुरू होता है और फिर नैनोइमप्रिंट लिथोग्राफी के माध्यम से पतली फिल्म का नैनोस्ट्रक्चरेशन।
Tags
EpitaxialNanostructuredAlpha-quartzSiliconQuartz-based SensorsMiniaturizationMonolithic IntegrationChemical IntegrationEpitaxial RequirementsMicrocantileversActive Microelectromechanical SystemLead-free Piezoelectric Oxide MaterialsMass SensitivityPDMSSOI SubstrateDip CoatingGel FilmMicro/nanostructure
