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Morbido Funzionalizzazione litografica e Patterning ossido senza silicio e germanio
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Capítulos
- 00:05Título
- 03:25Forming a Primary Methyl-terminated Monolayer on Silicon
- 05:07Forming a Primary Methyl-terminated Monolayer on Germanium
- 05:50NHS Substrate
- 06:26Preparing and Using the Acidic Polyurethane Acrylate (PUA) Stamp
- 08:13Protein Pattern
- 09:21Catalytic Nano-patterning and Functionalization
- 11:02Conclusion
Qui si descrive un metodo semplice per patterning senza ossido di silicio e germanio funzionalizzazione con reattivo monostrati organici e dimostrare dei substrati fantasia con piccole molecole e proteine. L'approccio protegge completamente le superfici da ossidazione chimica, fornisce un controllo preciso sulla morfologia caratteristica, e consente un accesso immediato ai modelli chimicamente discriminati.
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Soft Lithographic FunctionalizationPatterningOxide-free SiliconGermaniumHybrid Electronic Devices(bio)organic MaterialsInorganic SemiconductorsStable InterfaceElectron TransportOxidative DegradationSelf-assembled MonolayersAlkyl ChainsImpervious BarriersTraditional Patterning TechniquesImmobilizing Organic Molecular SystemsOptical FunctionElectronic FunctionMechanical FunctionChemical ActivityBiological ActivityMicrocontact PrintingNoble Metal SurfacesPattern TransferOxide-free Silicon And Germanium SubstratesInk DiffusionResolution Limit
