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Funcionalización suaves litográfica y Patrones libre de óxido de silicio y el germanio
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Capítulos
- 00:05Título
- 03:25Forming a Primary Methyl-terminated Monolayer on Silicon
- 05:07Forming a Primary Methyl-terminated Monolayer on Germanium
- 05:50NHS Substrate
- 06:26Preparing and Using the Acidic Polyurethane Acrylate (PUA) Stamp
- 08:13Protein Pattern
- 09:21Catalytic Nano-patterning and Functionalization
- 11:02Conclusion
A continuación se describe un método sencillo para modelar funcionalización libres de óxido de silicio y germanio con reactivos orgánicos monocapas y demostrar de los sustratos con dibujos de pequeñas moléculas y proteínas. El enfoque completamente protege las superficies de oxidación química, proporciona un control preciso sobre la morfología característica, y proporciona acceso rápido a los patrones discriminar químicamente.
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Soft Lithographic FunctionalizationPatterningOxide-free SiliconGermaniumHybrid Electronic Devices(bio)organic MaterialsInorganic SemiconductorsStable InterfaceElectron TransportOxidative DegradationSelf-assembled MonolayersAlkyl ChainsImpervious BarriersTraditional Patterning TechniquesImmobilizing Organic Molecular SystemsOptical FunctionElectronic FunctionMechanical FunctionChemical ActivityBiological ActivityMicrocontact PrintingNoble Metal SurfacesPattern TransferOxide-free Silicon And Germanium SubstratesInk DiffusionResolution Limit
