Journal
/
/
שימוש של חלקיקים של הקורבן להסיר את ההשפעות של Shot-רעש חורים לתקשר מפוברק על ידי E-הקורה ליתוגרפיה
JoVE Journal
Engenharia
É necessária uma assinatura da JoVE para visualizar este conteúdo.  Faça login ou comece sua avaliação gratuita.
JoVE Journal Engenharia
Use of Sacrificial Nanoparticles to Remove the Effects of Shot-noise in Contact Holes Fabricated by E-beam Lithography
DOI:

07:47 min

February 12, 2017

,

Capítulos

  • 00:05Título
  • 01:20Derivatization and Characterization of Silicon Wafer Surfaces
  • 02:14Gold Nanoparticle (GNP) Deposition into E-beam-patterned Holes
  • 03:46Pol(methyl methacrylate) (PMMA) Photoresist Reflow and Dry- and Wet-etching
  • 04:50Results: Reduction of Shot-noise by Deposition and Subsequent Etching of Sacrificial GNPs
  • 06:29Conclusion

Summary

Tadução automática

באופן אחיד חלקיקים בגודל יכולים להסיר תנודות בממדי קשר חור בדוגמת פולי (methacrylate מתיל) (PMMA) סרטי photoresist על ידי קרן אלקטרונים (E-beam) ליתוגרפיה. התהליך כרוך תיעול אלקטרוסטטית חלקיקים במרכז הפקדה חורה קשר, ואחריו הזרמה מחדש photoresist ו פלזמה וצעדים רטוב-תחריט.

Vídeos Relacionados

Read Article