/
/
Användning av offerNanoPartiklar att ta bort effekterna av Shot-brus i kontakt Hål tillverkas genom elektronstrålelitografi
É necessária uma assinatura da JoVE para visualizar este conteúdo. Faça login ou comece sua avaliação gratuita.
Capítulos
- 00:05Título
- 01:20Derivatization and Characterization of Silicon Wafer Surfaces
- 02:14Gold Nanoparticle (GNP) Deposition into E-beam-patterned Holes
- 03:46Pol(methyl methacrylate) (PMMA) Photoresist Reflow and Dry- and Wet-etching
- 04:50Results: Reduction of Shot-noise by Deposition and Subsequent Etching of Sacrificial GNPs
- 06:29Conclusion
Enhetlig storlek nanopartiklar kan ta bort svängningar i kontakt håldimensioner mönstrade i poly (metylmetakrylat) (PMMA) fotoresistfilmer från elektronstråle (E-stråle) litografi. Processen omfattar elektro kanalisera till centrum och inlåningsnanopartiklar i kontakt hål, följt av fotoresist återflöde och plasma och våt-etsningsstegen.
