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Capítulos
- 00:04Título
- 00:56Atomic Layer Deposition (ALD) of Amorphous Vanadium Dioxide (VO2 ) on Sapphire Substrates
- 03:06Annealing Amorphous VO2 Thin Films
- 04:45Characterization of VO2 Films by Raman Spectroscopy
- 05:43Characterization of VO2 Films by X-Ray Photoelectron Spectroscopy (XPS)
- 07:31Morphological Characterization by Atomic Force Microscopy (AFM)
- 09:06Results: Characterization of Amorphousand Crystalline VO2 Films
- 10:49Conclusion
vanadium डाइऑक्साइड (VO2) की पतली फिल्मों (100-1000 Å) नीलमणि सब्सट्रेटs पर परमाणु परत जमाव (एलड) द्वारा बनाई गई । इस के बाद, ऑप्टिकल संपत्तियों VO2के धातु-इंसुलेटर संक्रमण के माध्यम से विशेषता थे । मापा ऑप्टिकल गुणों से, एक मॉडल VO2के स्वरित्र अपवर्तन सूचकांक का वर्णन करने के लिए बनाया गया था ।
