Atomic Layer Deposition of Vanadium Dioxide and a Temperature-dependent Optical Model

00:04Título
00:56Atomic Layer Deposition (ALD) of Amorphous Vanadium Dioxide (VO₂) on Sapphire Substrates
03:06Annealing Amorphous VO₂ Thin Films
04:45Characterization of VO₂ Films by Raman Spectroscopy
05:43Characterization of VO₂Films by X-Ray Photoelectron Spectroscopy (XPS)
07:31Morphological Characterization by Atomic Force Microscopy (AFM)
09:06Results: Characterization of Amorphousand Crystalline VO₂ Films
10:49Conclusion

Summary

Tadução automática

Film sottili (100-1000 Å) di diossido di vanadio (VO₂) sono stati creati da deposizione di strati atomici (ALD) su substrati di vetro zaffiro. In seguito, le proprietà ottiche sono state caratterizzate attraverso la transizione metallo-isolante del VO₂. Dalle proprietà ottiche misurate, un modello è stato creato per descrivere l'indice di rifrazione sintonizzabile di VO₂.

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