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Deposición de capa atómica de dióxido de vanadio y un modelo óptico dependiente de la temperatura
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Capítulos
- 00:04Título
- 00:56Atomic Layer Deposition (ALD) of Amorphous Vanadium Dioxide (VO2 ) on Sapphire Substrates
- 03:06Annealing Amorphous VO2 Thin Films
- 04:45Characterization of VO2 Films by Raman Spectroscopy
- 05:43Characterization of VO2 Films by X-Ray Photoelectron Spectroscopy (XPS)
- 07:31Morphological Characterization by Atomic Force Microscopy (AFM)
- 09:06Results: Characterization of Amorphousand Crystalline VO2 Films
- 10:49Conclusion
Películas delgadas (100-1000 Å) de dióxido de vanadio (VO2) fueron creadas por la deposición de capa atómica (ALD) sobre sustratos de zafiro. Después de esto, las propiedades ópticas fueron caracterizadas a través de la transición metal aislante de VO2. De las propiedades ópticas de medida, un modelo fue creado para describir el índice de refracción ajustable de VO2.
