Journal
/
/
Atomlager nedfall av vanadin oxid och en temperatur-anhörigen optiska modell
JoVE Journal
Engenharia
This content is Free Access.
JoVE Journal Engenharia
Atomic Layer Deposition of Vanadium Dioxide and a Temperature-dependent Optical Model
DOI:

11:10 min

May 23, 2018

, ,

Capítulos

  • 00:04Título
  • 00:56Atomic Layer Deposition (ALD) of Amorphous Vanadium Dioxide (VO2 ) on Sapphire Substrates
  • 03:06Annealing Amorphous VO2 Thin Films
  • 04:45Characterization of VO2 Films by Raman Spectroscopy
  • 05:43Characterization of VO2 Films by X-Ray Photoelectron Spectroscopy (XPS)
  • 07:31Morphological Characterization by Atomic Force Microscopy (AFM)
  • 09:06Results: Characterization of Amorphousand Crystalline VO2 Films
  • 10:49Conclusion

Summary

Tadução automática

Tunna filmer (100-1000 Å) av vanadin koldioxid (VO2) skapades av atomlager nedfall (ALD) på safir substrat. Efter detta präglades de optiska egenskaperna genom metall-isolator övergången av VO2. Från de uppmätta optiska egenskaperna skapades en modell för att beskriva avstämbara brytningsindex för VO2.

Vídeos Relacionados

Read Article