Journal
/
Engenharia
/
Teoretisk beräkning och experimentell verifiering för dislokationsreduktion i germaniumepitaxiella skikt med semicylindriska hålrum på kisel
JoVE Journal
Engenharia
É necessária uma assinatura da JoVE para visualizar este conteúdo.  Faça login ou comece sua avaliação gratuita.
JoVE Journal Engenharia
Theoretical Calculation and Experimental Verification for Dislocation Reduction in Germanium Epitaxial Layers with Semicylindrical Voids on Silicon
Please note that all translations are automatically generated. Click here for the English version.

Teoretisk beräkning och experimentell verifiering för dislokationsreduktion i germaniumepitaxiella skikt med semicylindriska hålrum på kisel

DOI:
10.3791/58897-v

•

06:57 min

•

July 17, 2020

•

, , ,
1Department of Materials Engineering,The University of Tokyo, 2Department of Electrical and Electronic Information Engineering,Toyohashi University of Technology, 3Department of Materials Science and Engineering,Massachusetts Institute of Technology

Capítulos

  • 00:04Introduction
  • 00:34Experimental Verification Procedure
  • 04:29Results: Reduction of Threading Dislocation Density in Germanium Epitaxial Layers with Semicylindrical Voids on Silicon
  • 06:12Conclusion

Summary

Tadução automática

Tadução automática

Teoretisk beräkning och experimentell verifiering föreslås för en minskning av gängningsdislokationstätheten (TD) i germaniumepitaxiella skikt med halvcylindriska hålrum på kisel. Beräkningar baserade på interaktionen mellan TD och yta via bildkraft, TD-mätningar och transmissionselektronmikroskopobservationer av TD presenteras.

Tags

Dislocation ReductionGermanium Epitaxial LayersSemicylindrical VoidsSiliconThreading Dislocation DensitySelective Epitaxial GrowthBoron-doped P-siliconSilicon DioxidePhotoresistBuffered Hydrofluoric AcidGermanium Growth

Article

Embed

ADICIONAR À PLAYLIST

Usage Statistics

Vídeos Relacionados

Polykristallina kisel tunnfilms-solceller med plasmoniska-enhanced Light-svällning

Monolayer Contact Doping of Silicon Surfaces and Nanowires Using Organophosphorus Compounds

Selektiv Area Ändring av Silicon ytvätbarhet av pulsad UV laserstrålning i flytande miljö

Integration of Light fångst Silver nanostrukturer i Hydromikro Silicon solceller genom Transfer Tryck

Kvantifiering av vätgaskoncentrationer i Surface och gränssnitts Lager och strömaterial genom djupprofilering med kärnreaktionen Analys

SSVEP-baserade Försöksförfarande för Brain-Robot Interaktion med Humanoid robotar

Experimentella metoder för spinn - och vinkel-löst Photoemission spektroskopi kombinerat med polarisering-variabel Laser

Metoder Ex Situ och In Situ utredningar av strukturomvandlingar: fallet av kristallisation av metalliska glasögon

Tillverkning av magnetiska nanostrukturer på kisel nitriden membran för magnetiska Vortex studier med överföring mikroskopi tekniker

En Silicon-tippas fiberoptiska avkänning plattform med hög upplösning och snabb respons

Read Article