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Pellicole dell'ossido di Niobium depositate da Sputtering reattivo: Effetto del flusso di ossigeno
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Niobium Oxide Films Deposited by Reactive Sputtering: Effect of Oxygen Flow Rate
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Pellicole dell'ossido di Niobium depositate da Sputtering reattivo: Effetto del flusso di ossigeno

DOI:
10.3791/59929-v

•

08:23 min

•

September 28, 2019

•

, , , , ,
1Chemistry Department,Federal University of São Carlos (UFSCAR), 2Physics Department, School of Sciences,São Paulo State University (UNESP)

Capítulos

  • 00:04Título
  • 00:47Niobium Oxide Film Deposition
  • 03:55Solar Cell Construction
  • 05:46Results: The Effects of Oxygen Flow Rates on Reactive Sputtering
  • 07:23Conclusion

Summary

Tadução automática

Tadução automática

Qui, presentiamo un protocollo per la deposizione di pellicole di ossido di niobium eseguendo sputtering reattivamente con diverse velocità di flusso di ossigeno da utilizzare come strato di trasporto di elettroni nelle celle solari perovskite.

Tags

Reactive SputteringNiobium Oxide FilmsOxygen Flow RateThin Film DepositionSubstrate PreparationSputtering Process ParametersFilm ThicknessPlasma CleaningImpedance Matching

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