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Óxido de nióbio filmes depositados por sputtering reativa: efeito da taxa de fluxo de oxigênio
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Niobium Oxide Films Deposited by Reactive Sputtering: Effect of Oxygen Flow Rate

Óxido de nióbio filmes depositados por sputtering reativa: efeito da taxa de fluxo de oxigênio

DOI:
10.3791/59929-v

•

08:23 min

•

September 28, 2019

•

, , , , ,
1Chemistry Department,Federal University of São Carlos (UFSCAR), 2Physics Department, School of Sciences,São Paulo State University (UNESP)

Capítulos

  • 00:04Título
  • 00:47Niobium Oxide Film Deposition
  • 03:55Solar Cell Construction
  • 05:46Results: The Effects of Oxygen Flow Rates on Reactive Sputtering
  • 07:23Conclusion

Summary

Tadução automática

Tadução automática

Aqui, nós apresentamos um protocolo para o depósito das películas do óxido do nióbio pelo sputtering reactivo com taxas de fluxo diferentes do oxigênio para o uso como uma camada do transporte do elétron em pilhas solares do perovskita.

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Keywords: Reactive SputteringNiobium Oxide FilmsOxygen Flow RateThin Film DepositionSubstrate PreparationSputtering Process ParametersFilm ThicknessPlasma CleaningImpedance Matching

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