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Reconstrucción 3D del perfil de profundidad de las impurezas segregadas mediante espectrometría de masas de iones secundarios
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3D Depth Profile Reconstruction of Segregated Impurities Using Secondary Ion Mass Spectrometry
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Reconstrucción 3D del perfil de profundidad de las impurezas segregadas mediante espectrometría de masas de iones secundarios

DOI:
10.3791/61065-v

•

07:10 min

•

April 29, 2020

•

, , , ,
1Łukasiewicz Research Network-Institute of Electronic Materials Technology

Capítulos

  • 00:00Introduction
  • 00:57Defect Selective Etching
  • 02:09Scanning Electron Microscopy
  • 02:50Secondary Ion Mass Spectrometry
  • 05:34Results: Oxygen Counts in a Cuboid
  • 06:29Conclusion

Summary

Tadução automática

Tadução automática

El método presentado describe cómo identificar y resolver artefactos de medición relacionados con la espectrometría de masas de iones secundarios, así como obtener distribuciones 3D realistas de impurezas/dopantes en materiales de estado sólido.

Tags

3D Depth ProfileSegregated ImpuritiesSecondary Ion Mass SpectrometrySemiconductor TechnologyStructural DefectsEutectic MixtureDefect-selective EtchingGallium NitrideScanning Electron MicroscopySIMS Calibration

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