Nanomoulding von Functional Materials, ein vielseitiges Complementary Pattern Replication Methode zur Nanoimprinting
Summary
Wir beschreiben eine nanomoulding Technik, die Low-Cost-nanoskalige Strukturierung funktionaler Materialien, Materialien Stacks und voller Geräten ermöglicht. Nanomoulding kann auf jedem Nanoimprinting Setup durchgeführt werden und kann auf eine Vielzahl von Materialien und Abscheidungsverfahren aufgebracht werden.
Abstract
Wir beschreiben eine nanomoulding Technik, die Low-Cost-nanoskalige Strukturierung funktionaler Materialien, Materialien Stacks und voller Geräten ermöglicht. Nanomoulding mit Layer Übertragung kombiniert ermöglicht die Replikation von beliebigen Oberflächenstrukturen von einem Master-Struktur auf die funktionelle Material. Nanomoulding kann auf jedem Nanoimprinting Setup durchgeführt werden und kann auf eine Vielzahl von Materialien und Abscheidungsverfahren aufgebracht werden. Insbesondere zeigen wir die Herstellung von gemusterten transparenten Zink-Oxid-Elektroden für Licht Trapping Anwendungen in Solarzellen.
Introduction
Nanostrukturierung hat enorme Bedeutung in vielen Bereichen der Nanotechnologie und angewandte Wissenschaften gewonnen. Pattern Generation ist der erste Schritt und kann durch Top-down-Ansätze wie Elektronenstrahl-Lithographie oder Bottom-up-Ansätze auf self-assembly Methoden wie Nanokugel Lithographie oder Blockcopolymer-Lithographie ein Basis erreicht werden. Ebenso wichtig wie Pattern Generation ist Muster-Replikation. Neben Photolithographie hat Nanoimprinting (Abbildung 1) als eine vielversprechende Alternative insbesondere für High-Throughput großflächige nanoskalige Strukturierung bei niedrigen Kosten 2-4 entstanden. Während Photolithographie erfordert eine strukturierte Maske setzt Nanoimprint auf einem vorgefertigten Master-Struktur. Musterübertragung von der Master wird allgemein in ein thermoplastisches oder ein UV-oder thermisch härtbaren Polymer durchgeführt. Jedoch gibt es viele Fälle, wo es wünschenswert ist, um das Muster direkt auf eine funktionelle Material zu übertragen.
<p class = "jove_content"> Hier beschreiben wir eine Replikation Methode nanomoulding und Layer Transfer (Abbildung 2), die wir vor kurzem in Ref eingeführt wurde. 5 bis nanoskaligen Mustern auf funktionale Zink-Oxid-Elektroden übertragen. Unsere nanomoulding Methode kann leicht implementiert werden, wenn ein Nanoimprinting Setup zur Verfügung. Nanomoulding bietet die Möglichkeit, generalisiert werden, um viele andere funktionelle Materialien, Materialien Stapeln und sogar komplette Geräte, vorausgesetzt, dass das Formmaterial gewählt wird, dass es kompatibel mit dem Materialabscheidungs-Prozess (en) ist. Als Beispiel sei hier vorliegenden nanomoulding aus transparentem leitfähigem Zinkoxid (ZnO)-Elektroden abgeschieden durch chemische Gasphasenabscheidung (CVD), die ihre Anwendung auf Lichteinfang in Solarzellen 5 erweitern finden.Protocol
Representative Results
Discussion
Nanomoulding ermöglicht die Übertragung von Nanostrukturen auf beliebigen funktionellen Materialien. Vergleich der einzelnen Verarbeitungsschritte in Abbildung 1 und 2 zeigt die enge Beziehung zwischen nanomoulding und Nanoimprinting. Der Hauptunterschied zwischen nanomoulding und Nanoimprinting ist das zusätzliche Material Abscheidungsschritt in 2E. Der verbleibende Prozessablauf ist identisch. Nanomoulding kann daher auf jedem verfügbaren Nanoimprinting Setup durc…
Disclosures
The authors have nothing to disclose.
Acknowledgements
Die Autoren danken M. Leboeuf für die Unterstützung bei der AFM, W. Lee für die anodisch strukturierten Aluminium-Master und dem Schweizer Bundesamt für Energie und der Schweizerischen National Science Foundation für die Finanzierung. Ein Teil dieser Arbeit wurde im Rahmen des FP7-Projekt "Fast Track" von der EG im Rahmen der Finanzhilfevereinbarung keine 283501 finanziert durchgeführt.
Materials
| Name of the Reagent | Company | Catalogue Number | Comments (optional) |
| Nanoimprinting resin | Microresist | Ormostamp | |
| (1H, 1H, 2H, 2H-Perfluoroctyl)-trichlorsilane, anti-adhesion agent | Sigma Aldrich | 448931-10G | |
| Glass slides | Schott | AF32 eco | 0.5 mm |
| Polyethylene naphtalate (PEN) sheets | Goodfellow | ES361090 | 0.125 mm |
| (C2H5)2Zn | Akzo Nobel | ||
| Ag sputter target 4N | Heraeus | 81062165 | |
| B2H6, SiH4, H2, B(CH3)3, PH3, CH4, CO2 | Messer | ||
| EQUIPMENT | |||
| Nanoimprinting system | Home-built | ||
| LP-CVD system | Home-built | ||
| PVD system | Leybold | Univex 450 B | |
| PE-CVD reactor | Indeotec | Octopus I | |
| SEM | JEOL | JSM-7500 TFE | |
| AFM | Digital Instruments | Nanoscope 3100 |
References
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