टाइटेनियम नाइट्राइड-कोटेड सिलिकॉन सबस्ट्रेट्स पर गोल्ड डेन्ड्रिटिक नैनोवनों की वृद्धि
Summary
यह अध्ययन टाइटेनियम नाइट्राइड/सिलिकॉन सब्स्ट्राट्स पर सोने के डेन्ड्रिटिक नैनोवनों के संश्लेषण के लिए एक व्यवहार्य प्रक्रिया प्रस्तुत करता है । सोने के द्रुमाकृतिक नैनोवनों की मोटाई एक संश्लेषण की प्रतिक्रिया के 15 मिनट के भीतर रेखीय बढ़ जाती है ।
Abstract
इस अध्ययन में, एक उच्च शक्ति आवेग मैग्नेट्रॉन sputtering प्रणाली सिलिकॉन (Si) वेफर्स पर एक फ्लैट और फर्म टाइटेनियम नाइट्राइड (टिन) फिल्म कोट करने के लिए प्रयोग किया जाता है, और एक फ्लोराइड से सहायता प्राप्त गैल्वैनिक प्रतिस्थापन प्रतिक्रिया (FAGRR) तेजी से और आसानी से सोने के जमाव के लिए नियोजित है (क) के साथ-साथ, इस संबंध में क्या-क्या है? स्कैनिंग इलेक्ट्रॉन माइक्रोस्कोपी (SEM) छवियां और ऊर्जा-dispersive एक्स-रे टिन की-किरण स्पेक्ट्रोस्कोपी पैटर्न/ इस अध्ययन में प्रतिक्रिया की स्थिति के तहत, Au dnfs की मोटाई प्रतिक्रिया के 15 मिनट के भीतर रेखीय करने के लिए ५.१० ± ०.२० μm बढ़ जाती है । इसलिए, नियोजित संश्लेषण प्रक्रिया Au DNFs/टिन/सी कंपोजिट तैयार करने के लिए एक सरल और तेजी से दृष्टिकोण है.
Introduction
सोने नैनोकणों विशेषता ऑप्टिकल गुण और स्थानीयकृत सतह plasmon अनुनादों (lsprs), आकार और नैनोकणों1,2,3,4के आकार पर निर्भर करता है । इसके अलावा, सोने नैनोकणों काफी plasmonic प्रकाश उत्प्रेरक प्रतिक्रियाओं को बढ़ा सकते हैं5. Dendritic nanoforests खड़ी सोने नैनोकणों की वजह से उनकी उल्लेखनीय विशेष सतह क्षेत्रों और मजबूत lspr वृद्धि6,7,8,9 की काफी ध्यान दिया है ,10,11,12,13।
टिन एक अत्यंत कठिन सिरेमिक सामग्री है और उल्लेखनीय थर्मल, रासायनिक, और यांत्रिक स्थिरता है । टिन विशिष्ट ऑप्टिकल गुण है और दृश्य करने वाली के पास अवरक्त प्रकाश14,15के साथ plasmonic अनुप्रयोगों के लिए इस्तेमाल किया जा सकता है । अनुसंधान का प्रदर्शन किया है कि टिन विद्युत चुंबकीय क्षेत्र संवर्द्धन, Au nanostructures16के समान उत्पादन कर सकते हैं । आवेदन के लिए टिन के सबस्ट्रैट्स पर कॉपर17 या सिल्वर18,19,20 का निक्षेपण दर्शाया गया है । तथापि, अनुप्रयोगों के लिए एयू/टिन कंपोजिट सामग्रियों पर कुछ अध्ययनों का निष्पादन किया गया है । Shiao एट अल. हाल ही में Au DNFs के संभावित अनुप्रयोगों का प्रदर्शन किया है और photoelectrochemical कोशिकाओं21 और रासायनिक गिरावट22के लिए टिन कंपोजिट ।
Au एक FAGRR23का उपयोग करके एक टिन सब्सट्रेट पर संश्लेषित किया जा सकता है. अनुप्रयोग के निष्पादन में टिन पर Au DNFs की निक्षेपण स्थिति महत्वपूर्ण है । यह अध्ययन एक टिन लेपित एसआई सब्सट्रेट पर Au DNFs के विकास की जांच करता है ।
Protocol
Representative Results
Discussion
इस अध्ययन में, कई शाखा आकारों वाले Au DNFs को FAGRR का उपयोग करके टिन/Si की सतह पर सजाया गया था । Au DNFs के जमाव को रंग में एक महत्वपूर्ण परिवर्तन के द्वारा सीधे पहचाना जा सकता है । टिन/Si पर Au DNFs की मोटाई 15 मिनट के भीतर ५.१० ?…
Disclosures
The authors have nothing to disclose.
Acknowledgements
यह काम विज्ञान और प्रौद्योगिकी, ताइवान के मंत्रालय द्वारा समर्थित किया गया था अनुबंध संख्या के तहत सबसे 105-2221-E-492-003-MY2 और सबसे 107-2622-E-239-002-CC3 ।
Materials
| Acetone | Dinhaw Enterprise Co. Ltd.,Taipei, Taiwan | ||
| Isopropanol | Echo Chemical Co. Ltd., Miaoli, Taiwan | TG-078-000000-75NL | |
| Buffered Oxide Etch | Uni-onward Corp., Hsinchu, Taiwan | UR-BOE-1EA | |
| Chloroauric Acid | Alfa Aesar., Heysham, United Kingdom | 36400.03 | |
| N-Type Silicon Wafer | Summit-Tech Company, Hsinchu, Taiwan | ||
| High-Power Impulse Magnetron Sputtering System (HiPIMS) | Melec GmbH, Germany | SPIK2000A | |
| Scanning Electron Microscope (SEM) | JEOL, Japan | JSM-7800F | |
| Ion Sputter Coater | Hitachi, Japan | E-1030 | |
| X-Ray Diffractometer (XRD) | PANalytical, The Netherlands | X'Pert PRO MRD |
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