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Musterbildung auf Photolithographische Definierte Parylene-C: SiO<sub> 2</sub> Substrate
JoVE 杂志
生物工程
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JoVE 杂志 生物工程
Cell Patterning on Photolithographically Defined Parylene-C: SiO2 Substrates
DOI:

07:19 min

March 07, 2014

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Chapters

  • 00:05Title
  • 01:17Fabrication of Parylene Patterns on SiO2
  • 03:31Chip Cleaning and Activation
  • 04:26Plating Cell Line On-chip
  • 05:12Results: Cell Patterning on Photolithographically-defined Parylene-C
  • 06:49Conclusion

Summary

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Dieses Protokoll beschreibt eine Mikro-kompatible Methode zur Zellstrukturierung auf SiO 2. Eine vordefinierte Parylene-C Design ist fotolithographisch auf SiO 2-Wafer gedruckt. Nach der Inkubation mit Serum (oder andere Aktivierungslösung) Zellen anhaften speziell auf (und wachsen nach der Konformität) zugrunde liegenden Parylene-C, und dabei von SiO 2-Regionen zurückgeschlagen.

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