Organo-Blei Halogenid Perovskites haben vor kurzem großes Interesse für potenzielle Anwendungen in der Dünnschicht-Photovoltaik und Optoelektronik angezogen. Hier präsentieren wir ein Protokoll für die Herstellung dieses Materials über die Niederdruck-Dampf unterstützt Prozess (LP-VASP) Lösungsmethode, die ~ 19 % Wirkungsgrad bei planaren Heterojunction Perowskit Solarzellen ergibt. Zuerst melden wir die Synthese von Methylammonium Jodid (CH3NH3ich) und Methylammonium Bromid (CH3NH3Br) von Methylamin und die entsprechenden Halogenid-Säure (HI oder HBr). Dann beschreiben wir die Herstellung von Pinhole-frei, kontinuierliche Methylammonium-Lead-Halogenid Perowskit (CH3NH3TK-3 mit X = I, Br, Cl und ihre Mischung) Filme mit dem LP-VASP. Dieser Prozess basiert auf zwei Stufen: i) Spin-Coating von einer homogenen Schicht aus Blei-Halogenid-Vorläufer auf einem Substrat und (Ii) Umwandlung dieser Schicht in CH3NH3PbI3 XBrX indem man das Substrat Dämpfe aus einem Gemisch von CH 3 NH3ich und CH3NH3Br bei vermindertem Druck und 120 ° C. Durch langsame Diffusion von der Methylammonium-Halogenid-Dampf in der Lead-Halogenid-Vorläufer erreichen wir langsames und kontrolliertes Wachstum eines kontinuierlichen, Pinhole-freie Perowskit-Films. Die LP-VASP ermöglicht synthetische Zugriff auf die vollständige Halogenid-Kompositions-Raum in CH3NH3PbI3 XBrX mit 0 ≤ X ≤ 3. Je nach Zusammensetzung der Dampfphase kann der Bandlücke zwischen 1,6 eV ≤ Eg ≤ abgestimmt werden 2,3 eV. Durch Variation der Zusammensetzung der Halogenid-Vorstufe und der Dampf-Phase, können wir darüber hinaus auch CH3NH3PbI3 XClXerhalten. Filme aus der LP-VASP gewonnen sind reproduzierbar, phase rein, wie x-ray Diffraction Messungen und zeigen hohe Photolumineszenz Quantenausbeute bestätigt. Der Prozess erfordert nicht die Verwendung von einer Glovebox.