Mönstring på Celler på optiskt transparent Oxide Indium Tin Elektroder

Summary

Igensättningsfri PEG silan cellslager var desorberats från individuellt adresserbara ITO-elektroder på glas med hjälp av en reduktiv potential. Elektrokemiska strippning av PEG-silan lager från ITO microelectrodes tillåts för celladhesion ske i ett rumsligt definierade mode, med porös mönster motsvarar nära elektrod mönster.

Abstract

Förmågan att utöva exakta rumsliga och tidsmässiga kontroll över cellytan interaktioner är en viktig förutsättning för montering av flercelliga konstruktioner som fungerar som in vitro härmar inhemska vävnader. I denna studie var fotolitografi och våta tekniker för etsning används för att tillverka individuellt adresserbara indiumtennoxid (ITO) elektroder på glas substrat. Glaset substrat som innehåller ITO microelectrodes har modifierats med poly (etylenglykol) (PEG) silan för att göra dem protein och cell resistiv. Förekomst av isolerande PEG-molekyler på elektroden ytan var verifierats av cyklisk voltammetry anställa kaliumferricyanid som en redox-reporter molekyl. Viktigt tillämpningen av reduktiv potentiella orsakade desorption av PEG lager, vilket resulterar i förnyelse av de ledande elektroden yta och utseende av typiska ferricyanide redox toppar. Tillämpning av reduktiv potentiella motsvarade också till byte av ITO-elektrod fastigheter från cells non-lim till cell-lim. Elektrokemiska strippning av PEG-silan lager från ITO microelectrodes tillåts för celladhesion ske i ett rumsligt definierade mode, med porös mönster motsvarar nära elektrod mönster. Micropatterning av flera celltyper visades på dessa substrat. I framtiden kommer kontrollen av biointerfacial egenskaper som ges genom denna metod gör det möjligt att ingenjör cellulära mikromiljöer genom montering av tre eller flera celltyper i en exakt geometrisk konfiguration på ett optiskt transparent substrat.

Protocol

Del I: mönstring av elektroderna Ren och uttorkad ITO belagt glas diabilder var belagd med positiv fotoresist Ytan bakades vid 100 ° C för att avlägsna lösningsmedel från motstå Efter bakning, var den yta som exponeras för ultraviolett ljus genom en fotomask med Canon Mask Aligner Den utsatta regionerna togs bort i en utvecklare lösning Ytan var svårt bakade att undanröja eventuella återstående utvecklare lösning ITO regioner som inte skyddas av …

Discussion

I den här filmen har vi visat cellen mönster på optiskt transparent oxid indium elektroder. Efter att tillverka ITO-elektroder med fotolitografi, de var modifierad med en cell-resistiv monolager av PEG silan. Detta cellslager var desorberas med elektrokemi byta ytan från cell-resistiv till cell-lim. Mönstring av 3T3 murina fibroblaster har visat i sin video. Vi har också mönstring hepatocyter, primära celler och celler stellate med samma teknik. Dessutom, genom att göra flera enskilda elektroder, kan vi utöka denna teknik för att…

Materials

Material Name	Type	Company	Catalogue Number	Comment
Indium Tin Oxide	Other	Delta Technologies	CB 40IN
PEG silane	Reagent	Gelest Inc.	SIM6492.66
Hydrochloric Acid	Reagent	Sigma-Aldrich	320331
Nitric Acid	Reagent	Sigma Aldrich	258121
Ethanol	Reagent	Sigma-Aldrich	459836
Acetone	Reagent	Sigma-Aldrich	650501
Toluene	Reagent	Sigma-Aldrich	34866
Media	Reagent	Invitrogen Technologies
Collagen	Reagent	Sigma-Aldrich	C3867
3T3 murine Fibroblasts	Cell Line	ATCC