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Patrones celular en fotolitográficamente Definido Parylene-C: SiO<sub> 2</sub> Sustratos
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1Centre for Integrative Physiology, School of Biomedical Sciences,The University of Edinburgh, 2Edinburgh Cancer Research Centre, Institute of Genetics and Molecular Medicine,Western General Hospital, 3School of Engineering, Institute for Integrated Micro and Nano Systems,The University of Edinburgh
Chapitres
- 00:05Titre
- 01:17Fabrication of Parylene Patterns on SiO2
- 03:31Chip Cleaning and Activation
- 04:26Plating Cell Line On-chip
- 05:12Results: Cell Patterning on Photolithographically-defined Parylene-C
- 06:49Conclusion
Este protocolo describe un método compatible con la microfabricación de patrón de células en SiO2. Un diseño parileno-C predefinido se fotolitográficamente impreso en SiO 2 obleas. Después de la incubación las células con suero (u otra solución de activación) se adhieren específicamente a (y crecen de acuerdo con la conformidad de) subyacente de parileno-C, mientras que siendo repelido por SiO 2 regiones.
Tags
Cell PatterningParylene-CSiO2 SubstratesPhotolithographyMulti-electrode ArraysLab On A ChipCell AdhesionCell-specific Adhesion MoleculesPrimary Murine Hippocampal CellsHEK 293 Cell LineHuman Neuron-like Teratocarcinoma Cell LinePrimary Murine Cerebellar Granule CellsPrimary Human Glioma-derived Stem-like Cells
