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可変バンド ギャップ ピンホール フリー メチル鉛ハライド ペロブスカイト薄膜の低圧蒸気支援ソリューション プロセス
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Chimie
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Journal JoVE Chimie
Low Pressure Vapor-assisted Solution Process for Tunable Band Gap Pinhole-free Methylammonium Lead Halide Perovskite Films
DOI:

08:12 min

September 08, 2017

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Chapitres

  • 00:05Titre
  • 00:52Preparation of Methylammonium Halide
  • 02:50Preparation of Methylammonium Lead Halide Thin Films
  • 05:30Results: Formation of Tunable Band Gap Pinhole-free Methylammonium Lead Halide Perovskite Films
  • 07:12Conclusion

Summary

Traduction automatique

ここでは、提案は CH3NH3の合成のためのプロトコル CH3NH3Br 前駆体と、その後ピンホール フリー、連続 CH3NH PbI3 xBrx 3薄膜形成のため、高効率太陽電池と他のオプトエレクトロニクス デバイスのアプリケーション。

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