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Flusso-assistita dielettroforesi: Un metodo a basso costo per la realizzazione di dispositivi ad alte prestazioni soluzione-processable Nanowire
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Flow-assisted Dielectrophoresis: A Low Cost Method for the Fabrication of High Performance Solution-processable Nanowire Devices
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Flusso-assistita dielettroforesi: Un metodo a basso costo per la realizzazione di dispositivi ad alte prestazioni soluzione-processable Nanowire

DOI:
10.3791/56408-v

•

09:14 min

•

December 07, 2017

•

, ,
1Advanced Technology Institute, Electrical and Electronic Engineering,University of Surrey

Chapitres

  • 00:05Titre
  • 00:56Preparation of Substrates
  • 02:03Photolithography Bilayer Process for Contacts
  • 04:04Deposition of Metal Contacts
  • 04:59Flow-assisted Dielectrophoresis of Nanowires
  • 06:48Results: I-V Characteristics of a Silicon Nanowire Field Effect Transistor Mode Using Flow-aasisted Dielectrophoresis
  • 08:05Conclusion

Summary

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In questa carta, flusso dielettroforesi assistita è dimostrata per l'auto-assemblaggio di dispositivi nanofilo. La realizzazione di un transistor a effetto di campo nanowire silicio è indicata come un esempio.

Tags

Keywords: Flow-assisted DielectrophoresisSolution-processable Nanowire DevicesSemiconductor NanowiresNanowire AlignmentNanowire SelectionNanomaterial Self-assemblySolution-based Device FabricationSemiconductor DevicesNanofabricationScalable Nanowire Device Manufacturing

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