Journal
/
/
ליתוגרפיה של קרן יון ממוקדת לחרוט ננו-ארכיטקטורות למיקרואלקטרודות
Journal JoVE
Bio-ingénierie
Un abonnement à JoVE est nécessaire pour voir ce contenu.  Connectez-vous ou commencez votre essai gratuit.
Journal JoVE Bio-ingénierie
Focused Ion Beam Lithography to Etch Nano-architectures into Microelectrodes
DOI:

13:49 min

January 19, 2020

, , , ,

Chapitres

  • 00:04Titre
  • 00:51Aligning the Focus Ion Beam (FIB) to the Silicon Probes
  • 09:46Writing an Automated Process for Etching
  • 11:28Results: FIB Etched Nano-architecture on the Surfaces of Intracortical Probes and Microelectrodes Affects Neuron Density and Electrophysiology
  • 13:08Conclusion

Summary

Traduction automatique

הצגנו כי תחריט של הננו-ארכיטקטורה לתוך התקנים מיקרו-אלקטרודה תאיים עשוי להפחית את התגובה הדלקתית ויש לו את הפוטנציאל לשפר הקלטות אלקטרופיזיולוגיות. השיטות המתוארות כאן מתווה גישה לחרוט ננו-ארכיטקטורות לפני השטח של מיקרואלקטרודות שאינן תפקודי ופונקציונלי בודד.

Vidéos Connexes

Read Article